基于硅基MXene膜层阻抗可调性的太赫兹波反射调控

IF 0.9 4区 物理与天体物理 Q4 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 激光与光电子学进展 Pub Date : 2023-01-01 DOI:10.3788/lop231068
王道远 Wang Daoyuan, 高成喆 Gao Chengzhe, 黄婉霞 Huang Wanxia, 孟坤 Meng Kun, 施奇武 Shi Qiwu
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摘要

对太赫兹(THz)波的传输调控是THz光学系统设计、通信、成像应用等领域的基础技术之一。界面阻抗匹配效应可以用于实现高效THz波反射调控,但尚未见硅基界面阻抗设计实现THz波调控的报道。本研究利用自组装法在高阻硅基底上制备MXene膜层,通过增加膜层厚度改变其电阻特性,进而连续调节Si/MXene/空气界面阻抗,实现高效的THz波减反射。在接近阻抗匹配态时,界面THz波反射率减少幅度达83%,透过率衰减约为30%。还利用THz波层析扫描成像技术,得到了Si/MXene/空气界面阻抗变化导致的THz波反射强度变化趋势。设计的具有高效THz波反射调控性能的Si基功能界面为THz波传输调控提供了一种新思路。
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基于硅基MXene膜层阻抗可调性的太赫兹波反射调控
对太赫兹(THz)波的传输调控是THz光学系统设计、通信、成像应用等领域的基础技术之一。界面阻抗匹配效应可以用于实现高效THz波反射调控,但尚未见硅基界面阻抗设计实现THz波调控的报道。本研究利用自组装法在高阻硅基底上制备MXene膜层,通过增加膜层厚度改变其电阻特性,进而连续调节Si/MXene/空气界面阻抗,实现高效的THz波减反射。在接近阻抗匹配态时,界面THz波反射率减少幅度达83%,透过率衰减约为30%。还利用THz波层析扫描成像技术,得到了Si/MXene/空气界面阻抗变化导致的THz波反射强度变化趋势。设计的具有高效THz波反射调控性能的Si基功能界面为THz波传输调控提供了一种新思路。
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