Photoresists based on bisphenol A derivatives with tert-butyl ester groups for electron beam lithography
已完结10由 徐徐 发布于 2024/10/22 22:34:50
DOI:10.1016/j.jphotochem.2022.114351
作者:Shengwen Hu , Jinping Chen , Tianjun Yu , Yi Zeng , Xudong Guo , Shuangqing Wang , Guoqiang Yang , Yi Li
文献类型:期刊论文
补充材料:只需要正文