首页 > 文献互助> 求助详情

Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temperature oxidation resistance

已完结 10 由 1325 发布于 2024/12/25 9:21:22
DOI:10.1116/1.2049298
作者:J. Vl?ek,??. Potocky,?J. Cizek,?J. Hou?ka,?M. Kormunda,?P. Zeman,?V. Pe?ina,?J. Zemek,?Y. Setsuhara,?S. Konuma
文献类型:期刊论文
补充材料:只需要正文
American Institute of Physics (AIP)American Institute of Physics (AIP)
应助信息
d
求助已完结,文件已删除 如有需求请重新发布求助 一键发布
感谢使用Book学术
本站所有文献仅供个人学习和参考,请勿将文件进行传播。共同遵守网站规定和相关知识产权规定。
求助榜
数据汇报
今日求助成功率76.69%
10分钟内应助率70%
微信
客服QQ
Book学术公众号 扫码关注我们
反馈
×
意见反馈
请填写您的意见或建议
请填写您的手机或邮箱
×
Book学术官方微信
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:481959085
Book学术
文献互助 智能选刊 最新文献 互助须知 联系我们:info@booksci.cn
Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。
Copyright © 2023 Book学术 All rights reserved.
ghs 京公网安备 11010802042870号 京ICP备2023020795号-1