Journal of Vacuum Science and Technology

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Modification of discharge sequences to control the random dispersion of flake particles during wafer etching

Pub Date : 2023-11-14 DOI: 10.1116/6.0002974 Ching Ming Ku, Wen Yea Jang, Stone Cheng

Interfacial reactivity in the Co/CuO samples as investigated by x-ray photoelectron spectroscopy

Pub Date : 2023-11-14 DOI: 10.1116/6.0002922 A. R. Chourasia, D. R. Chopra

E-mode AlGaN/GaN HEMTs using p-NiO gates

Pub Date : 2023-11-08 DOI: 10.1116/6.0003119 Chao-Ching Chiang, Hsiao-Hsuan Wan, Jian-Sian Li, Fan Ren, Timothy Jinsoo Yoo, Honggyu Kim, S. J. Pearton

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