PEMANFAATAN LIMBAH CAIR INDUSTRI PCB SEBAGAI LARUTAN ELEKTROLIT COPPER PLATING

H. B. Cahyono, Rieke Yuliastuti
{"title":"PEMANFAATAN LIMBAH CAIR INDUSTRI PCB SEBAGAI LARUTAN ELEKTROLIT COPPER PLATING","authors":"H. B. Cahyono, Rieke Yuliastuti","doi":"10.26578/jrti.v14i1.5551","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Limbah cair yang dihasilkan dari proses etching di industri Printed Circuit Board (PCB) masih mengandung banyak tembaga (Cu). Tembaga (Cu) merupakan salah satu logam yang sering digunakan sebagai bahan pelapis pada produk elektroplating. Melatarbelakangi hal tersebut maka dilakukan penelitian mengenai potensi kemampuan pelapisan tembaga menggunakan limbah cair etching industri PCB sebagai larutan elektrolit dengan benda kerja dari besi, tujuannya adalah limbah cair sisa proses etching PCB dapat termanfaatkan. Tipe larutan elektrolit yang digunakan adalah larutan tembaga non cyanide yaitu menggunakan Tembaga clorida (CuCl2 ) sebagai pengganti tembaga sulfat (CuSO4). Variabel penelitiannya adalah durasi plating selama 30 detik, 60 detik dan 90 detik dan penggunaan Asam sulfat sebesar 45 g/l; 67,5 g/l dan 90 g/l. Dari hasil penelitian didapatkan data, hasil limbah cair proses etching PCB yang mengandung tembaga terlarut hingga 15% dapat digunakan sebagai larutan elektrolit pada proses pelapisan logam tembaga. Penambahan bobot lapisan tembaga pada benda kerja terjadi pada seluruh variabel perlakuan. Namun pada durasi plating 90 detik memberikan keretakan pada benda kerja. Warna lapisan tembaga yang dimunculkan untuk seluruh perlakuan dengan bahan limbah cair tidak secerah warna yang dimunculkan oleh larutan kontrol (CuSO4). Hal tersebut dikarenakan impurities besi terlarut dalam limbah cair sekitar 138,65 mg/l sedangkan pada larutan kontrol (CuSO4 ) hanya mengandung besi terlarut hanya sebesar 0,445 mg/L.","PeriodicalId":117182,"journal":{"name":"Jurnal Riset Teknologi Industri","volume":"210 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2020-06-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Jurnal Riset Teknologi Industri","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.26578/jrti.v14i1.5551","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0

Abstract

Limbah cair yang dihasilkan dari proses etching di industri Printed Circuit Board (PCB) masih mengandung banyak tembaga (Cu). Tembaga (Cu) merupakan salah satu logam yang sering digunakan sebagai bahan pelapis pada produk elektroplating. Melatarbelakangi hal tersebut maka dilakukan penelitian mengenai potensi kemampuan pelapisan tembaga menggunakan limbah cair etching industri PCB sebagai larutan elektrolit dengan benda kerja dari besi, tujuannya adalah limbah cair sisa proses etching PCB dapat termanfaatkan. Tipe larutan elektrolit yang digunakan adalah larutan tembaga non cyanide yaitu menggunakan Tembaga clorida (CuCl2 ) sebagai pengganti tembaga sulfat (CuSO4). Variabel penelitiannya adalah durasi plating selama 30 detik, 60 detik dan 90 detik dan penggunaan Asam sulfat sebesar 45 g/l; 67,5 g/l dan 90 g/l. Dari hasil penelitian didapatkan data, hasil limbah cair proses etching PCB yang mengandung tembaga terlarut hingga 15% dapat digunakan sebagai larutan elektrolit pada proses pelapisan logam tembaga. Penambahan bobot lapisan tembaga pada benda kerja terjadi pada seluruh variabel perlakuan. Namun pada durasi plating 90 detik memberikan keretakan pada benda kerja. Warna lapisan tembaga yang dimunculkan untuk seluruh perlakuan dengan bahan limbah cair tidak secerah warna yang dimunculkan oleh larutan kontrol (CuSO4). Hal tersebut dikarenakan impurities besi terlarut dalam limbah cair sekitar 138,65 mg/l sedangkan pada larutan kontrol (CuSO4 ) hanya mengandung besi terlarut hanya sebesar 0,445 mg/L.
查看原文
分享 分享
微信好友 朋友圈 QQ好友 复制链接
本刊更多论文
将多氯联苯工业废水用作电解质镀溶液
在Printed Circuit板(PCB)加工过程中产生的排泄物仍然含有大量的铜(Cu)。铜(铜)是一种金属,常用于装饰电镀产品。在此基础上,研究了将多氯联苯工业排泄物用作电解质溶液的潜在铜涂层能力,其目的是培养出对PCB排泄物的剩余废液。所用的电解质溶液是一种非cyanide铜溶液,它使用clorida (CuCl2)代替硫铜(CuSO4)。研究的变量是将持续时间限制在30秒、60秒和90秒,以及45克/l的硫酸使用;67.5克/l和90 g/l。从研究中提取的数据显示,含有溶解铜的多氯联苯排泄物排泄物产生15%,可以在铜涂料过程中用作电解质溶液。在物体上增加铜层的重量发生在整个治疗变量上。但是在堆栈持续时间90秒会使物体有裂缝。在整个治疗过程中,铜层的颜色没有控制溶液(CuSO4)产生的颜色那么鲜艳。这是因为铁在约138.65 mg/l的液体废物中溶解,而控制溶液(CuSO4)只含有0.445 mg/l的可溶性铁。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
求助全文
约1分钟内获得全文 去求助
来源期刊
自引率
0.00%
发文量
0
期刊最新文献
Potensi Biogas dari Limbah Padat Industri Kelapa Sawit di Kalimantan Timur Kajian HACCP (Hazard Analysis And Critical Control Point) Proses Pembuatan Snack Bar Berbasis Pisang (Musa paradisiaca) Kajian Mutu Amplang Ikan Pipih, Bandeng dan Tenggiri Ditinjau dari Karakterisasi Sifat Fisikokimia, Mikrobiologi serta Kandungan Logam Pengaruh Waktu Hidrolisis terhadap Karakteristik Hidrolisat Protein Ikan Toman (Channa micropeltes) Asal DAS Kalimantan Timur Skrining Fitokimia, Antioksidan dan Aktivitas Antibakteri Ekstrak Etanol Akar Segar Bangle (Zingiber montanum)
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
现在去查看 取消
×
提示
确定
0
微信
客服QQ
Book学术公众号 扫码关注我们
反馈
×
意见反馈
请填写您的意见或建议
请填写您的手机或邮箱
已复制链接
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
×
扫码分享
扫码分享
Book学术官方微信
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:481959085
Book学术
文献互助 智能选刊 最新文献 互助须知 联系我们:info@booksci.cn
Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。
Copyright © 2023 Book学术 All rights reserved.
ghs 京公网安备 11010802042870号 京ICP备2023020795号-1