{"title":"ЕЛЕКТРИЧНІ ТА ТЕНЗОЕЛЕКТРИЧНІ ВЛАСТИВОСТІ γ-ОПРОМІНЕНИХ МОНОКРИСТАЛІВ n-Si","authors":"Луньов С.В., Цизь А.І.","doi":"10.36910/6775-2313-5352-2022-20-10","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":" \nДослідженні електричні властивості та тензорезистивний ефект при одновісному тискові вздовж кристалографічного напрямку [100] для неопромінених та γ-опромінених монокристалів кремнію, легованих домішкою фосфору, при температурі рідкого азоту та кімнатній. На основі вимірювань ефекту Холла було встановлено, що при збільшенні дози γ-опромінення зменшується концентрація та рухливість електронів в монокристалах n-Si. Значне зменшення концентрації електронів при T=77 K для опромінених дозою Ф=5·108 Р монокристалів n-Si пов’язане з утворенням при γ-опромінені значної концентрації акцепторних рівнів радіаційних дефектів (А- та Е-центрів, дивакансій та інших). Для доз γ-опромінення Ф<5·107 Р наявність тензорезистивного ефекту n-Si пояснюється зменшенням рухливості електронів при одновісному тискові, оскільки концентрація електронів практично залишається сталою. Зменшення питомого опору при переході через максимум залежності для γ-опромінених дозою Ф=5·108 Р монокристалів n-Si пов’язане зі зростанням концентрації електронів за рахунок іонізації локальних рівнів радіаційних дефектів при збільшенні одновісного тиску. Експериментальні вимірювання ефекту Холла та тензорезистивного ефекту добре корелюють з одержаними залежностями коефіцієнта тензочутливості. З аналізу даних залежностей слідує, що збільшення температури та дози γ -опромінення призводить до зменшення коефіцієнта тензочутливості n-Si. Одержані результати можуть знайти своє практичне використання для конструювання радіаційно стійких сенсорів тиску на основі монокристалів n-Si.","PeriodicalId":293419,"journal":{"name":"Перспективні технології та прилади","volume":"187 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2022-09-30","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Перспективні технології та прилади","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.36910/6775-2313-5352-2022-20-10","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Abstract
Дослідженні електричні властивості та тензорезистивний ефект при одновісному тискові вздовж кристалографічного напрямку [100] для неопромінених та γ-опромінених монокристалів кремнію, легованих домішкою фосфору, при температурі рідкого азоту та кімнатній. На основі вимірювань ефекту Холла було встановлено, що при збільшенні дози γ-опромінення зменшується концентрація та рухливість електронів в монокристалах n-Si. Значне зменшення концентрації електронів при T=77 K для опромінених дозою Ф=5·108 Р монокристалів n-Si пов’язане з утворенням при γ-опромінені значної концентрації акцепторних рівнів радіаційних дефектів (А- та Е-центрів, дивакансій та інших). Для доз γ-опромінення Ф<5·107 Р наявність тензорезистивного ефекту n-Si пояснюється зменшенням рухливості електронів при одновісному тискові, оскільки концентрація електронів практично залишається сталою. Зменшення питомого опору при переході через максимум залежності для γ-опромінених дозою Ф=5·108 Р монокристалів n-Si пов’язане зі зростанням концентрації електронів за рахунок іонізації локальних рівнів радіаційних дефектів при збільшенні одновісного тиску. Експериментальні вимірювання ефекту Холла та тензорезистивного ефекту добре корелюють з одержаними залежностями коефіцієнта тензочутливості. З аналізу даних залежностей слідує, що збільшення температури та дози γ -опромінення призводить до зменшення коефіцієнта тензочутливості n-Si. Одержані результати можуть знайти своє практичне використання для конструювання радіаційно стійких сенсорів тиску на основі монокристалів n-Si.
研究了在液氮和室温条件下,未经过辐照和经过γ-辐照的掺杂磷杂质的硅单晶沿晶体学方向 [100] 的单轴压力下的电学特性和应变电阻效应。根据霍尔效应的测量结果发现,正硅单晶中电子的浓度和迁移率随着γ辐照剂量的增加而降低。辐照剂量为 F = 5-108 R 的正硅单晶在 T = 77 K 时的电子浓度明显降低,这与γ辐照下形成的辐射缺陷(A-和 E-中心、二隙等)的受体水平明显集中有关。当γ-辐照剂量 F<5-107 R 时,正硅的应变电阻效应可以通过单轴压力下电子迁移率的降低来解释,因为电子浓度实际上保持不变。在剂量为 F = 5-108 R 的γ辐照 n-Si 单晶中,电阻率在过渡到最大值时会降低,这与电子浓度的增加有关,因为随着单轴压力的增加,辐射缺陷的局部电离水平也会增加。霍尔效应和应变电阻效应的实验测量结果与所获得的应变敏感系数相关性很好。通过对这些相关性的分析,可以得出温度和γ-辐照剂量的增加会导致 n-Si 的应变敏感系数降低。所得结果可用于设计基于正硅单晶的抗辐射压力传感器。