二硫化锡纳米片阻变存储器的制备与性能。 Preparation and Properties of Resistive Random Access Memory Based on Tin Disulfide Nanosheets

Abstract

采用水热法合成了尺寸为50~100 nm的二硫化锡纳米片，并首次以二硫化锡作为阻变层材料的阻变存储器（Cu/PMMA/SnS2/Ag，PMMA=聚甲基丙烯酸甲酯），对其阻变性能进行了研究。结果表明：Cu/PMMA/SnS2/Ag阻变存储器的开关比约105，耐受性2.7×103。在上述2项性能指标达到较优水平的同时，开态与关态电压分别仅约为0.28与-0.19 V。