Optical Reflectance and Electrical Resistance of Polycrystalline Thin Metallic Films

Abstract

The influence of conduction electron scattering at grain boundaries on the optical reflectance in the visible and near infrared spectral ranges are studied for polycrystalline thin metallic films. The reflectance is obtained by solving the Maxwell equation at metal surfaces and the surface current is obtained by introducing the relaxation time which is related to the electron scattering at grain boundaries by the Mayadas-Shatzkes method. A simple linear connection exists between the relative change of optical reflectance and the relative change of electrical resistance for polycrystalline metal films. Der Einflus der Streuung von Leitungselektronen an den Kristallitgrenzen auf das Verhalten der optischen Reflexion in polykristallinen Metallfilmen fur den Bereich des sichtbaren Lichts und des naheren Infrarot wird untersucht. Die optische Reflexion wird mit Hilfe der Maxwell-gleichungen berechnet, wahrend die Werte des elektrischen Schichtstroms mit Hilfe der Mayadas-Shatzkes-Weglangentheorie erhalten werden konne. Eine einfache lineare Korrelation zwischen der relativen Anderung der optischen Reflexion und dem elektrischen Widerstand fur polykristalline Metallschichten wird festgestellt.