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Nanometerfeine Strukturen aus Quarzglas, die sich direkt auf Halbleiterchips drucken lassen, erzeugt ein am Karlsruher Institut für Technologie (KIT) entwickeltes Verfahren. Ein hybrides organisch‐anorganisches Polymerharz dient als Ausgangsmaterial für den 3D‐Druck von Siliziumdioxid. Da das Verfahren ohne Sintern auskommt, sind die dazu erforderlichen Temperaturen deutlich niedriger als sonst. Zugleich ermöglicht eine höhere Auflösung Nanophotonik mit sichtbarem Licht.
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