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摘要
二元锑化镓半导体近年来在光电器件中得到了广泛的应用。研究它们在半导体材料中的缺陷对这类应用至关重要。但是,除了对未掺杂的半导体进行常规表征外,还需要对掺杂样品中电活性杂质的影响进行表征。本文利用原子力显微镜研究了掺钒锑化镓(GaSb:V)二元半导体的结构和电子性能。在扫描模式下对其表面进行扫描,以获得样品的地形和地形剖面的图像,而通过接触模式获得的I vs V曲线确定其电子性质。
Estudio de propiedades estructurales y electrónicas de GaSb:V
El semiconductor binario antimoniuro de galio ha tenido muchas aplicaciones en dispositivos optoelectrónicos en los últimos años. El estudio de sus defectos en los materiales semiconductores es de vital interés para este tipo de aplicaciones. Pero, además de la caracterización rutinaria del semiconductor sin dopar, es necesario la caracterización de los efectos que producen las impurezas eléctricamente activas en las muestras dopadas. En este trabajo se estudiaron las propiedades estructurales y electrónicas del semiconductor binario antimoniuro de galio dopado con vanadio (GaSb:V) por medio de un Microscopio de Fuerza Atómica. El barrido de su superficie se realizó en el modo tapping para obtener imágenes de la topografía y de los perfiles topográficos de la muestra, mientras las propiedades electrónicas se determinaron a través de las curvas I vs V conseguidas mediante el modo contacto.