中国科大刘世勇教授团队 Angew：基于精准高分子化学的单组分极紫外光刻胶

高分子科技 2024-09-29 12:21
文章摘要
中国科学技术大学刘世勇教授团队开发了一种基于精准自降解高分子(SIPs)的高性能单组分极紫外(EUV)光刻胶。该光刻胶通过级联降解机制，实现了在低剂量电子束或EUV辐射下的高分辨率和低线边粗糙度(LER)。与传统多分散聚合物光刻胶相比，精准高分子光刻胶在分辨率和LER方面表现出显著优势，且具有更高的抗蚀刻性能和储存稳定性。该研究不仅展示了精准高分子光刻胶在解决分辨率、LER和灵敏度之间折衷问题的潜力，还突显了其在高分辨率光刻应用中的重要性。
中国科大刘世勇教授团队 Angew：基于精准高分子化学的单组分极紫外光刻胶
查看文献： Single-Component High-Resolution Dual-Tone EUV Photoresists Based on Precision Self-Immolative Polymers
查看期刊：ACS Energy Letters
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