Light | 使用极紫外光计算成像技术检测芯片缺陷

本文介绍了荷兰代尔夫特理工大学与乌得勒支大学的科学家们开发的一种创新的极紫外光计算成像技术，用于检测芯片中的纳米尺寸缺陷。该技术通过计算从采集的衍射数据中恢复重建样品的图像，无需使用昂贵的极紫外光成像系统，显著降低了成本。文章详细描述了该技术的三个关键要素：极紫外光源、测量方法和重建算法。极紫外光源采用桌面型紧凑设计，通过高次谐波产生极紫外光；测量方法采用层叠成像技术，通过扫描样品并拍摄衍射图案来重建图像；重建算法利用自动微分技术和GPU加速，提高了计算速度和精度。该技术有望成为下一代芯片缺陷检测的核心技术，满足半导体行业对高分辨率和高灵敏度检测的需求。