Light | 极紫外光计算成像技术检测芯片缺陷

荷兰代尔夫特理工大学与乌得勒支大学的科学家们开发了一种创新的极紫外光计算成像技术，用于检测芯片中的纳米尺寸缺陷。该技术通过计算从采集的衍射数据中恢复重建样品的图像，无需使用昂贵的极紫外光成像系统，显著降低了成本。随着极紫外光刻技术的进步和芯片特征尺寸的缩小，这种高分辨率和高灵敏度的成像技术将成为下一代芯片缺陷检测的核心技术。研究背景在于提高光刻分辨率以实现摩尔定律的预测，而检测芯片缺陷是半导体生产中的关键环节。该技术通过桌面型紧凑极紫外光源、扫描测量方法和强大的重建算法，实现了高效且精确的芯片缺陷检测。