摩尔定律下的奇迹：揭秘一个让科技飞速发展的机器

本文探讨了摩尔定律在现代科技发展中的重要性，特别是通过EUV光刻技术实现更小晶体管的制造。文章详细介绍了EUV光刻技术的发展历程，从193纳米浸没式光刻到13.5纳米EUV的转变，以及当前正在开发的高数值孔径EUV光刻技术。该技术预计将于2025年投入商用，旨在进一步缩小芯片的几何尺寸，从而维持摩尔定律的持续发展。文章还提到了实现这一技术所面临的挑战，如光学系统的改造和生产率的维持，以及阿斯麦公司（ASML）和卡尔·蔡司等公司在这一领域的努力。