重大突破！华中科技大学攻克芯片光刻胶关键技术

华中科技大学武汉光电国家研究中心团队成功研发出T150A光刻胶系列产品，该产品已通过半导体工艺量产验证，实现了原材料全部国产和配方全自主设计。光刻胶是芯片制造中的关键材料，用于光刻环节，其工作原理类似于照相机的胶卷曝光。目前，我国使用的光刻胶九成以上依赖进口，而该团队的产品对标国际头部企业的主流KrF光刻胶系列，具有更高的极限分辨率、工艺宽容度和稳定性。团队在电子化学品领域深耕多年，致力于半导体专用高端电子化学品的开发，旨在突破国外技术封锁，推动国内半导体制造技术的发展。