重大突破！华中科技大学攻克芯片光刻胶关键技术

华中科技大学武汉光电国家研究中心团队成功研发出T150A光刻胶系列产品，该产品已通过半导体工艺量产验证，实现了原材料全部国产和配方全自主设计。光刻胶是芯片制造中的关键材料，用于光刻环节，其工作原理类似于照相机的胶卷曝光。目前，我国光刻胶九成以上依赖进口，而该团队的研究成果有望打破国外技术垄断，开创国内半导体光刻制造新局面。T150A光刻胶在光刻工艺中表现出更高的极限分辨率、工艺宽容度和稳定性，对刻蚀工艺表现优异，为国内半导体产业提供了新的技术支持。团队负责人表示，这只是开始，未来将继续研发更多类型的光刻胶，致力于突破国外关键技术瓶颈。