光刻机研制为什么难

光刻机作为集成电路制造的核心设备，其研制难度极高，涉及光学、材料科学、机械工程等多个领域的尖端技术。文章详细介绍了光刻机的工作原理、历史演进以及当前最先进的EUV光刻技术。EUV光刻机是目前唯一能够支持2nm制程节点的光刻设备，但其研发和生产面临巨大的技术、资金和合作挑战。文章还探讨了光刻技术的发展趋势，包括如何优化EUV光刻技术以及探索下一代光刻技术如纳米压印和定向自组装。总体而言，光刻机的研制不仅是技术上的挑战，也是国家科技实力和自主创新能力的体现。