亮点 | 逆向光刻技术全了解

本文介绍了逆向光刻技术的工作原理、研究进展及其在集成电路制造中的应用。随着摩尔定律的推进，光刻技术面临光学邻近效应的挑战，逆向光刻技术通过像素修正显著提高了图形的保真度和工艺窗口。文章详细讨论了逆向光刻技术的应用案例、面临的挑战及解决方案，并展望了未来发展方向，包括深度学习在逆向光刻技术中的应用和GPU加速计算的潜力。