研究前沿：硅集成空穴传输层-显示材料-微光刻 | Nature Electronics

本文介绍了美国斯坦福大学、韩国延世大学等机构在Nature Electronics上发表的研究，探讨了硅集成的小分子空穴传输层通过微光刻技术在晶片规模上形成图案，以减轻高密度显示器中的电像素串扰。研究展示了在6英寸晶片上创建分辨率高达每英寸10,062像素的高保真微图案阵列，有效调节发光层内的电荷平衡，改善有机发光二极管的发光特性。相比于传统空穴传输层，微图案化硅集成的小分子空穴传输层显著降低了电像素串扰。