SIGGRAPH Asia | 神经光刻：克服计算光学设计与制造鸿沟

本文探讨了计算光学设计技术的最新进展，特别是神经光刻技术在克服设计与制造鸿沟方面的应用。文章首先介绍了计算光学设计的背景和重要性，指出其在增强现实、虚拟现实等领域的广泛应用。接着，文章详细描述了麻省理工学院和香港中文大学研究人员提出的基于机器学习与物理模型的数字光刻仿真器，该仿真器能够更准确地模拟光刻制造流程，并与下游任务性能模拟工具整合，实现端到端的设计优化。研究结果表明，这种神经光刻方法显著提升了光学元件的制造精度和性能，特别是在衍射全息元件和多级衍射透镜的设计中。最后，文章展望了神经光刻技术在未来的应用前景，认为它将加速先进计算光学系统的研发与商业化。