「两全其美」,从头设计分子,深度学习架构S4用于化学语言建模
计算材料学
2024-08-03 20:57
文章摘要
本文介绍了荷兰埃因霍芬理工大学的研究人员如何将最新的深度学习架构S4应用于化学语言建模,以推动从头药物设计。S4模型在学习和生成序列的全局属性方面表现出色,特别适用于处理复杂的分子特性。研究通过一系列药物发现任务对S4与现有CLM进行了基准测试,结果显示S4在设计有效、独特和新颖的分子方面表现优异,尤其在捕捉生物活性和复杂分子性质方面具有潜力。此外,S4在前瞻性应用中,如激酶抑制剂的设计,显示出高活性分子的生成能力。这是首次将状态空间模型应用于分子任务,相关研究发表在《Nature Communications》上。
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