Advanced Materials for Optics and Electronics

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Metal amides: versatile dopant precursors for electronic materials

Pub Date : 2000-05-01 DOI: 10.1002/1099-0712(200005/10)10:3/5<213::AID-AMO419>3.0.CO;2-# O. Just, W. S. Rees

Ultraviolet assisted injection liquid source chemical vapour deposition (UVILS‐CVD) of tantalum pentoxide

Pub Date : 2000-05-01 DOI: 10.1002/1099-0712(200005/10)10:3/5<115::AID-AMO418>3.0.CO;2-# P. Kelly, M. Mooney, J. T. Beechinor, B. O’Sullivan, P. Hurley, G. Crean, J. Zhang, I. Boyd, M. Paillous, C. Jiménez, J. Sénateur

Recent developments in the MOCVD of electronic materials

Pub Date : 2000-05-01 DOI: 10.1002/1099-0712(200005/10)10:3/5<91::AID-AMO421>3.0.CO;2-# A. C. Jones

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