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Chinese journal of otorhinolaryngology head and neck surgery
Chinese journal of otorhinolaryngology head and neck surgery
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发文信息
投稿信息
同类期刊
中文名称:
中华耳鼻咽喉头颈外科杂志
英文名称:
Chinese journal of otorhinolaryngology head and neck surgery
曾用名:
中华耳鼻咽喉科杂志
CN:
11-5330/R
影响因子:
期刊影响因子(Impact factor,IF) 即某刊平均每篇论文的被引用数,是表征期刊影响大小的一项定量指标,它实际上是某刊在某年被全部源刊物引证该刊前两年发表论文的次数,与该刊前两年所发表的全部源论文数之比。
1.162
反馈
ISSN:
ISSN是由8个数字组成的编码,旨在识别各种报纸、专业杂志、画报、期刊,无论其性质或载体版本(纸版及电子版)。
print: 1673-0860
研究领域:
Medicine-Medicine (all)
Gold OA文章占比:
Gold OA文章占比是指一个总体中金色OA文章数量占总体文章数量的比重。OA期刊的文章主要通过金色通道(Gold road,也称为Gold OA,即期刊官网)和绿色通道(Green road,或Green OA)实现开放获取。金色通道是开放获取期刊通过自己的官网来实现的,而绿色通道是通过把文章自存档于机构知识库(Institutional Repositories,比如哈佛大学学术库DASH)或学科知识库中来实现。
0.00%
原创研究文献占比:
0.00%
SCI收录类型:
Scopus (CiteScore)
期刊官网:
http://www.entnet.org.cn
主管:
中国科学技术协会
主办单位:
中华医学会
CiteScore:
引用分数(英语:CiteScore,CS)是一种用来反映学术期刊最近发表文章“年平均被引用次数”的衡量指标。该指标由Elsevier于 2016 年 12 月推出,以替代常用的JCR影响因子(由Clarivate计算)。 CiteScore是Scopus中系列期刊指标的一部分,包括 SNIP(源文档标准化影响),SJR (SClmago杂志排名),引用文档计数以及引用百分比。
CiteScore
SJR
SNIP
CiteScore排名
0.4
0.135
0.146
学科
排名
百分位
大类:Medicine
小类:Otorhinolaryngology
102 / 123
17%
发文信息
发文量:
12432
被引量:
82150
投稿信息
出版周期:
月刊
出版语言:
中文
邮政编码:
400042
Email:
cjorl@cmaph.org
出版国家(地区):
China
投稿网址:
http://cmaes.medline.org.cn
出版商:
Zhonghua Yixuehui Zazhishe
编辑部地址:
北京市
PubMed链接:
http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=1673-0860%5BISSN%5D
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[Position paper on diagnosis and treatment of type 2 chronic rhinosinusitis].
Pub Date : 2024-10-07
DOI: 10.3760/cma.j.cn115330-20240518-00289
J B Shi, L Cheng, H B Li, Z Liu, C S Wang, Y Q Sun, H Y Hong, Q T Yang, K J Zuo, R Xu, P P Cao, Y Y Lai, F H Chen, Y N Zhang, G Xu, L Zhang
[Review of the development and latest perspectives in 2024 on Allergic Rhinitis and its Impact on Asthma (ARIA)].
Pub Date : 2024-10-07
DOI: 10.3760/cma.j.cn115330-20240725-00450
X Luo, Z X Hua, Y N Zhang, Q T Yang
[Application of mitoxantrone hydrochloride in lymph node imaging during radical thyroidectomy].
Pub Date : 2024-10-07
DOI: 10.3760/cma.j.cn115330-20240518-00287
Y Cheng, S Zhang, Z W Liu, L L Liu, Y Wang, J H Gu
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