{"title":"Влияние морфологии супраструктуры поликристаллических пленок халькогенидов\nсвинца на спектральную плотность мощности шума","authors":"Б.Н. Мирошников, М. Ю. Пресняков, В. П. Астахов","doi":"10.34077/rcsp2019-111","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Связь морфологии со спектральной плотностью мощности шума фоторезисторов на основе PbS\nдетально обсуждалась в [1, 2].\nНаши исследования в этой области были продолжены на фоторезистивных структурах на основе\nPbSe и PbCdS. Данные образцы были изготовлены с целью получения фоточувствительных слоев с\nвысокой чувствительностью в диапазоне длин волн 1,5-5 мкм.\nВ докладе приведены результаты измерений как значения шума на частотах 400, 800 и 1200 Гц,\nтак и спектральной плотности мощности шума в диапазоне 1 – 10 000 Гц. Показано, что наличие\nшума типа 1/F во всем диапазоне частот напрямую связано со степенью упорядочения\nполупроводникового материала. Так для субструктур, представленных на рисунке 1 (с приведенными\nдля них картинами дифракции электронов) легко видеть различия между «шумящей» структурой\n(верхний рисунок) и малошумящей (с преобладанием генерационно-рекомбинационного шума).","PeriodicalId":118786,"journal":{"name":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","volume":"50 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2019-05-24","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/rcsp2019-111","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Abstract
Связь морфологии со спектральной плотностью мощности шума фоторезисторов на основе PbS
детально обсуждалась в [1, 2].
Наши исследования в этой области были продолжены на фоторезистивных структурах на основе
PbSe и PbCdS. Данные образцы были изготовлены с целью получения фоточувствительных слоев с
высокой чувствительностью в диапазоне длин волн 1,5-5 мкм.
В докладе приведены результаты измерений как значения шума на частотах 400, 800 и 1200 Гц,
так и спектральной плотности мощности шума в диапазоне 1 – 10 000 Гц. Показано, что наличие
шума типа 1/F во всем диапазоне частот напрямую связано со степенью упорядочения
полупроводникового материала. Так для субструктур, представленных на рисунке 1 (с приведенными
для них картинами дифракции электронов) легко видеть различия между «шумящей» структурой
(верхний рисунок) и малошумящей (с преобладанием генерационно-рекомбинационного шума).