Optical interferometry for nanometer measurement of a large step

Y. Takahashi, M. Kiso, T. Ishii, H. Teramoto, K. Iwata
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Abstract

白色干渉法とヘテロダイン干渉法を併用することによって, mmオーダの大段差をnmオーダの精度で計測することを試みた.まず最初にnm計測の誤差要因と要因別に誤差を列挙した.そして, これらの総合誤差が1.3nm程度に収まることを示した.つぎに, 5個の試料にっき8回の繰返し計測を実施した結果, データのばらつきは標準偏差で0.9nmであった.この値は, 各種の振動や試料の取付け姿勢等の影響を含んだものであり, 空気除振台と一体化鏡筒の利用による振動の低減, アクリルカバーによる空気のゆらぎと周囲騒音の低減, ステージ送り変動分の減算補正によって, 得られたものである.このほかに, 本方法では2個のウォラストンブリズムを背面対称に配列することによってアライメント調整が容易になり, かっ, ワークディスタンスを大きく自在に取れるという特長を得ることができた.
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光学干涉法用于纳米测量的大步进
通过同时使用白色干扰法和外差干扰法,尝试以nm干涉法的精度测量mm干涉器的大台阶,首先列举了nm测量的误差因素和按不同因素的误差,然后指出:接着,对5个样品进行了8次重复测量,结果显示数据偏差为标准差0.9nm。包含了各种振动和样品的安装姿势等的影响,通过利用空气除振台和一体化镜筒减少振动,减少由丙烯酸罩引起的空气波动和周围噪音,减少级进变动部分的计算修正,此外,本方法通过背面对称地排列两个沃拉斯顿棱镜,使对准调整变得容易,得到了能够自由自在地进行工作立场的特长。
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