{"title":"N,N-ジエチルアミノシラン類のアンモノリシスによる高分子量ポリシラザンの合成","authors":"芳首 阿部, 孝次 依田, 圭晃 工藤, 澄幸 村山, 天博 郡司","doi":"10.1246/NIKKASHI.2001.559","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"クロロ(N,N-ジエチルアミノ)シランおよびビス(N,N-ジエチルアミノ)シランのアンモノリシスによりポリシラザンHPZ1およびHPZ2を合成した．HPZ1およびHPZ2は自己縮合に対する安定性が低く，分子量約1000，[H2Si(NH)]nを主骨格とするポリシラザンであった．HPZ1およびHPZ2は，希薄溶液あるいはクロロ(トリメチル)シランによりシリル化体とすることにより自己縮合が抑制され，テトラヒドロフランやエーテルなどの溶液として扱えた．一方，ポリシラザンの35 wt% (HPZ1)および45 wt% (HPZ2)THF溶液を20 °Cで放置すると，最高で重量平均分子量85000 (HPZ1)および45000 (HPZ2)のポリシラザンが生成することがわかった．","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":"54 1","pages":"559-565"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2001-10-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Nippon Kagaku Kaishi","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2001.559","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
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通过N,N-二乙基氨基硅烷类的氨酰作用合成高分子量聚硅烷
通过氯(N,N-二乙基氨基)硅烷和双(N,N-二乙基氨基)硅烷的氨酰作用合成聚硅烷HPZ1和HPZ2。HPZ1及HPZ2对自缩合的稳定性较低，分子量约1000，是以[H2Si(NH)]n为主骨架的聚合物。HPZ1及HPZ2通过稀释溶液或用氯(三甲基)硅烷制成硅烷化体，抑制了自缩合，可作为四氢呋喃、乙醚等溶液处理。另一方面，如果在20°C下放置聚希拉山的35wt % (HPZ1)和45wt % (HPZ2)THF溶液，发现最高平均重量分子量为85000 (HPZ1)和45000 (HPZ2)的聚硅烷生成。
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