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Degradation of Polymers in the Presence of Anhydrous Aluminum Chloride 无水氯化铝存在下聚合物的降解
Pub Date : 2011-01-01 DOI: 10.1246/NIKKASHI.1976.1171
Tadashi Yamaguchi, Taiji Kamiguchi, Toshimichi Fro, S. Ohkita, Tomio Goto
{"title":"Degradation of Polymers in the Presence of Anhydrous Aluminum Chloride","authors":"Tadashi Yamaguchi, Taiji Kamiguchi, Toshimichi Fro, S. Ohkita, Tomio Goto","doi":"10.1246/NIKKASHI.1976.1171","DOIUrl":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.1976.1171","url":null,"abstract":"","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":"16 1","pages":""},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2011-01-01","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"85955221","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
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ポリフェノール修飾β‐シクロデキストリン‐遷移金属錯体触媒を用いた過酸化水素による芳香族スルフィドの不斉酸化 多酚修饰β -环糊精-使用过渡金属配合物催化剂的过氧化氢芳香族化合物的不对称氧化
Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.399
英剛 櫻庭, 大 前川, 聡 瀧澤, 入内島 さちこ, 学美 山田
ポリフェノール(没食子酸(GA),プロトカテク酸(PA,NH-PA),2,3-ジヒドロキシ安息香酸(2,3-HBA))ならびにサリチル酸(SA)および安息香酸(BA)の6種を,それぞれβ-シクロデキストリン(β-CD)の第一級ヒドロキシ基側に一置換させたβ-CD修飾体を合成した.その遷移金属イオン錯体の不斉触媒効果をpH 1–7の領域で,芳香族スルフィド(フェニル,ナフチルおよびフェナントリル誘導体)の酸化反応で調べた.ポリフェノール修飾β-CD誘導体のフェニル環の3-,4-,5-位に位置する隣接ヒドロキシ基は,Mo(V)イオンの共存する中性領域(pH 6)でメチル1-ナフチルスルフィドを不斉触媒酸化し,対応するスルホキシドの(R)-体を20–55%の不斉収率で生成した.これに反して,修飾基のフェニル環の2-位にヒドロキシ基があると,(S)-スルホキシドが19–35%eeで得られた.ポリフェノールのβ-CDとの結合様式は不斉収率に影響を及ぼし,PAのエステル化修飾体(β-CD-PA)のMo(V)錯体はアミド化修飾体(β-CD-NH-PA,41%ee(R))より高い不斉収率(55%ee(R))をもたらした.このメチル1-ナフチルスルフィドの酸化で得られた光学純度は,基質として用いた芳香族スルフィドの中で最大値であった.やはり,フェノール性ヒドロキシ基を持たないβ-CD-BAの添加では不斉誘起は全く起こらなかった.β-CD-PAのMoとW(4d-,5d-ブロック)金属錯体では(R)-スルホキシドを36–55%eeで生成し,3d-ブロック金属イオンとの錯体では(S)-スルホキシドが10–45%eeで得られ,互いに逆の不斉挙動を示した.
将多酚(没食子酸(GA)、原加酸(PA, NH-PA)、2,3-二羟基苯甲酸(2,3-HBA))以及水杨酸(SA)和苯甲酸(BA)等6种物质,分别合成β-环糊精(β-CD)的一级羟基侧的β-CD修饰体。在pH为1 - 7的区域,通过芳香族硫化物(苯基、萘基及苯甲酸衍生物)的氧化反应检测了过渡金属离子配合物的不对称催化效果。位于多酚修饰β-CD衍生物苯环的3-,4-,5-位的邻接羟基在Mo(V)离子共存的中性区(pH 6)不对称催化氧化甲基1-萘基硫化物,以20 - 55%的不对称收率生成对应的砜(R)-体。相反,如果修饰基苯基环的2-位有羟基,则得到19 - 35%ee的(S)-砜。多酚与β-CD的结合方式会影响不对称收率,PA的酯化修饰体(β-CD-PA)的Mo(V)配合物是酰胺化修饰体(β-CD- nh -PA,带来了比41%ee(R)更高的不对称收率(55%ee(R))。甲基1-萘基硫化物氧化得到的光学纯度是作为基质使用的芳香族硫化物中最大值。果然,没有酚性羟基的β-CD-BA的添加完全没有发生不对称引起。β-CD-PA的Mo和W(4d-, 5d-块)金属配合物中,用36 - 55%ee生成(R)-亚砜,与3d-块金属离子的配合物中,用10 - 45%ee得到(S)-亚砜,表现出了相反的不一致举动。
{"title":"ポリフェノール修飾β‐シクロデキストリン‐遷移金属錯体触媒を用いた過酸化水素による芳香族スルフィドの不斉酸化","authors":"英剛 櫻庭, 大 前川, 聡 瀧澤, 入内島 さちこ, 学美 山田","doi":"10.1246/NIKKASHI.2002.399","DOIUrl":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2002.399","url":null,"abstract":"ポリフェノール(没食子酸(GA),プロトカテク酸(PA,NH-PA),2,3-ジヒドロキシ安息香酸(2,3-HBA))ならびにサリチル酸(SA)および安息香酸(BA)の6種を,それぞれβ-シクロデキストリン(β-CD)の第一級ヒドロキシ基側に一置換させたβ-CD修飾体を合成した.その遷移金属イオン錯体の不斉触媒効果をpH 1–7の領域で,芳香族スルフィド(フェニル,ナフチルおよびフェナントリル誘導体)の酸化反応で調べた.ポリフェノール修飾β-CD誘導体のフェニル環の3-,4-,5-位に位置する隣接ヒドロキシ基は,Mo(V)イオンの共存する中性領域(pH 6)でメチル1-ナフチルスルフィドを不斉触媒酸化し,対応するスルホキシドの(R)-体を20–55%の不斉収率で生成した.これに反して,修飾基のフェニル環の2-位にヒドロキシ基があると,(S)-スルホキシドが19–35%eeで得られた.ポリフェノールのβ-CDとの結合様式は不斉収率に影響を及ぼし,PAのエステル化修飾体(β-CD-PA)のMo(V)錯体はアミド化修飾体(β-CD-NH-PA,41%ee(R))より高い不斉収率(55%ee(R))をもたらした.このメチル1-ナフチルスルフィドの酸化で得られた光学純度は,基質として用いた芳香族スルフィドの中で最大値であった.やはり,フェノール性ヒドロキシ基を持たないβ-CD-BAの添加では不斉誘起は全く起こらなかった.β-CD-PAのMoとW(4d-,5d-ブロック)金属錯体では(R)-スルホキシドを36–55%eeで生成し,3d-ブロック金属イオンとの錯体では(S)-スルホキシドが10–45%eeで得られ,互いに逆の不斉挙動を示した.","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":"16 1","pages":"399-407"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2002-03-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"84179769","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Mesomorphic Properties of p-Benzoquinone Derivatives 对苯醌衍生物的介形性质
Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.309
H. Matsutani, S. Sata, M. Sugiura
ベンゼン誘導体1の報告以降,二次元円盤状の分子が示すディスコチック液晶に関する研究が盛んに行われている.Chandrasekharら,およびLillyaらの研究グループは,それぞれ独立に2,5-シクロヘキサジエン-1,4-ジオン(p-ベンゾキノン)誘導体2の不安定なカラムナー相について報告している.著者らは,p-ベンゾキノン誘導体が示す酸化-還元等の機能性をディスコチック液晶に取り入れることにより,新たな機能材料の創製が可能となると考えた.そこで,エステル誘導体2に対して,種々のp-ベンゾキノン誘導体4,5,7を合成し,これらの化合物が示す中間相について調べた.安息香酸エステル4は,芳香環とコアが同一平面になっていなかったためか,中間相は確認できなかった.エーテル5bのDSC測定を行ったところ,32 °Cと55 °Cに吸熱ピークが観測された.しかし,液晶相と思われる明確な組織は確認できなかった.一方,アミド誘導体7aを等方性液体から冷却すると樹枝状組織が観測された.この結果は7aがモノトロピー的なColh相をとることを示唆している.
自苯衍生物1的报告以来,有关二维圆盘状分子显示的迪斯科液晶的研究取得了长足发展。Chandrasekhar和Lillya等人的研究小组分别发表了关于2,5-环己二烯-1,4-二离子(p-苯醌)诱导体2的不稳定卡伦纳相的报告。作者认为,通过将p-苯醌衍生物显示的氧化-还原等功能性引入迪斯科液晶中,就可以制造出新的功能材料。因此,对酯衍生物2合成了各种p-苯醌衍生物4,5,7,并研究了这些化合物显示的中间相。苯甲酸酯4的芳香环和核没有在同一平面上,因此无法确认中间相。对乙醚5b进行DSC测定时,在32°C和55°C观测到吸热峰值。但是,未能确认疑似液晶相的明确组织。另一方面,将酰胺衍生物7a从各向同性液体中冷却后,观测到了树枝状组织。这一结果表明,7a采取单转录的Colh相。
{"title":"Mesomorphic Properties of p-Benzoquinone Derivatives","authors":"H. Matsutani, S. Sata, M. Sugiura","doi":"10.1246/NIKKASHI.2002.309","DOIUrl":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2002.309","url":null,"abstract":"ベンゼン誘導体1の報告以降,二次元円盤状の分子が示すディスコチック液晶に関する研究が盛んに行われている.Chandrasekharら,およびLillyaらの研究グループは,それぞれ独立に2,5-シクロヘキサジエン-1,4-ジオン(p-ベンゾキノン)誘導体2の不安定なカラムナー相について報告している.著者らは,p-ベンゾキノン誘導体が示す酸化-還元等の機能性をディスコチック液晶に取り入れることにより,新たな機能材料の創製が可能となると考えた.そこで,エステル誘導体2に対して,種々のp-ベンゾキノン誘導体4,5,7を合成し,これらの化合物が示す中間相について調べた.安息香酸エステル4は,芳香環とコアが同一平面になっていなかったためか,中間相は確認できなかった.エーテル5bのDSC測定を行ったところ,32 °Cと55 °Cに吸熱ピークが観測された.しかし,液晶相と思われる明確な組織は確認できなかった.一方,アミド誘導体7aを等方性液体から冷却すると樹枝状組織が観測された.この結果は7aがモノトロピー的なColh相をとることを示唆している.","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":"27 1","pages":"309-312"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2002-03-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"82296063","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
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スギ(Cryptomeria japonica D. Don)辺材およびその構成成分から調製した木酢液の分析 杉树(Cryptomeria japonica D. Don)边材及其构成成分配制的木醋液的分析
Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.385
洋一 松下, 和寛 菅本, 健一 日高, 隆尚 松井
??????(Cryptomeria japonic D. Don)??????????????????Klason???????????????α-????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????(TG)??????????????????(DTA)?????????????????????????????????????????????258 °C???Klason???????????????342 °C???α-??????????????????280 °C???????????????????????????153 °C???????????????????????????????????????????????????????????????????????????400 °C?????????????????????????????????????????????GC???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????3????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????250 °C · ??????6???????????????????????????????????????????????????????????????300 °C???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????250 °C????????????????????????????????????????????????300 °C???????????????????????????????????????????????????????????????
{"title":"スギ(Cryptomeria japonica D. Don)辺材およびその構成成分から調製した木酢液の分析","authors":"洋一 松下, 和寛 菅本, 健一 日高, 隆尚 松井","doi":"10.1246/NIKKASHI.2002.385","DOIUrl":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2002.385","url":null,"abstract":"??????(Cryptomeria japonic D. Don)??????????????????Klason???????????????α-????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????(TG)??????????????????(DTA)?????????????????????????????????????????????258 °C???Klason???????????????342 °C???α-??????????????????280 °C???????????????????????????153 °C???????????????????????????????????????????????????????????????????????????400 °C?????????????????????????????????????????????GC???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????3????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????250 °C · ??????6???????????????????????????????????????????????????????????????300 °C???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????250 °C????????????????????????????????????????????????300 °C???????????????????????????????????????????????????????????????","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":"231 1","pages":"385-391"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2002-03-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"76109394","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 5
漆液の反復「くろめ」によるウルシオールの変化と低湿度環境における自然乾燥性発現の関係 漆液的反复“黑”导致醛醇的变化和低湿度环境中自然干燥性表现的关系
Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.377
喜助 永瀬, 幸男 神谷, 賢吾 穂積, 哲雄 宮腰
低湿度環境で自然乾燥性を持つ重合漆液の調製を目的として,反応容器中で生漆の反復「くろめ」1)を行った.すなわち簡易な実験用漆液重合装置を試作し,「くろめ」処理の繰り返しによって生漆1)を重合させ,漆液中のウルシオールの変化と低湿度環境(20–25 °C,45–55%RH)での乾燥性を調べた. 生漆は反復「くろめ」によって酵素酸化が進行し,この中に含まれるウルシオール単量体が減少する.また,この反応における反応容器の底面積と処理量および処理時間には,相関関係があることがわかり,その関係式を推測した.さらに,これらの変化に伴い,ヒドロキシ基価と抗酸化力が低下して側鎖の自動酸化が起こりやすくなり,低湿度環境での自然乾燥性が発現することを見いだした.
为了制备在低湿度环境下具有自然干燥性的聚合漆液,在反应容器中进行了生漆的反复“黑”1)。即试制出简易实验用漆液聚合装置,通过反复“黑”处理使生漆1)聚合,测试了漆液中乙醇的变化和在低湿度环境(20—25°C, 45—55%RH)下的干燥性。生漆由于反复“黑”,酶酸化进行,其中所含的醛酰单体减少。另外,该反应的反应容器底面积与处理量及处理时间之间存在相关关系,由此推测出了相关公式。进一步发现,随着这些变化,羟基基价和抗氧化能力下降,侧链容易自动氧化,在低湿度环境中表现出自然干燥性。
{"title":"漆液の反復「くろめ」によるウルシオールの変化と低湿度環境における自然乾燥性発現の関係","authors":"喜助 永瀬, 幸男 神谷, 賢吾 穂積, 哲雄 宮腰","doi":"10.1246/NIKKASHI.2002.377","DOIUrl":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2002.377","url":null,"abstract":"低湿度環境で自然乾燥性を持つ重合漆液の調製を目的として,反応容器中で生漆の反復「くろめ」1)を行った.すなわち簡易な実験用漆液重合装置を試作し,「くろめ」処理の繰り返しによって生漆1)を重合させ,漆液中のウルシオールの変化と低湿度環境(20–25 °C,45–55%RH)での乾燥性を調べた. 生漆は反復「くろめ」によって酵素酸化が進行し,この中に含まれるウルシオール単量体が減少する.また,この反応における反応容器の底面積と処理量および処理時間には,相関関係があることがわかり,その関係式を推測した.さらに,これらの変化に伴い,ヒドロキシ基価と抗酸化力が低下して側鎖の自動酸化が起こりやすくなり,低湿度環境での自然乾燥性が発現することを見いだした.","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":"29 1","pages":"377-384"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2002-03-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"78218688","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 10
Crystal Structure Control of Lithium Manganese Spinal Oxides and Their Application to Lithium Secondary Battery 锂锰脊髓氧化物晶体结构控制及其在锂二次电池中的应用
Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.271
H. Ikuta, Y. Uchimoto, M. Wakihara
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引用次数: 2
The Effect of Metals Loaded on Activated Carbon on the Removal of NO_2 负载金属对活性炭去除NO_2的影响
Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.421
T. Shirakashi, Takami Moteki, Tomohiro Abe, T. Tamura, S. Yoshihara
Ag,Pt,CuおよびCuOを担持させた活性炭を調製し,これによるNO2除去特性を調べた.活性炭はヤシガラ系のものを用い,金属の担持方法としては,金属イオンを含む溶液に活性炭を入れ,活性炭により直接金属にまで還元する方法および金属錯体として吸着させた後窒素中700 °Cで加熱,還元する方法を用いた.NO2は硝酸鉛の熱分解により発生させ,活性炭を充填したカラムに循環させた.Pt/ACおよびCu/ACを用いた場合,NO2は速やかに除去され,空気中と窒素中でのNO2の除去速度に大きな差は見られなかった.反応ガス中のHNO3,HNO2,NO,NH3はごくわずかであり,NO2はN2まで還元されることが示唆された.また,CuO/ACを用いた場合にもNO2の除去性はCu/ACとほぼ同一であり,Ag/ACによるNO2の除去性は小さかった.NO2除去後の金属の結晶状態をXRDで調べた結果,Ptは金属のピークのみを示した.Cu/ACを用いた場合にはCu2OおよびCuOに酸化された状態も観察され,CuO/ACを用いた場合にはCuおよびCu2Oに還元された状態も存在した.これらのことから,Pt/ACおよびCu/ACはNO2の還元除去に対する有効な触媒であり,Pt,CuあるいはCu2Oは活性炭によるNO2の還元触媒として作用している.
制备了携带Ag、Pt、Cu及CuO的活性炭,并检测了其NO2去除特性。活性炭采用炭粉类的活性炭,作为金属的携带方法,将活性炭放入含有金属离子的溶液中,通过活性炭直接还原成金属的方法以及作为金属配合物吸附后在氮气中700°C加热,使用了还原的方法。NO2由硝酸铅的热分解产生,循环到填充活性炭的列中。使用Pt/AC和Cu/AC时,NO2被迅速去除,空气中和氮气中NO2的去除速度没有明显差异。反应气体中HNO3、HNO2、NO、NH3的含量极少,表明NO2可以被还原到N2。另外,在使用CuO/AC时,NO2的去除性也与Cu/AC基本相同,Ag/AC对NO2的去除性较小。用XRD调查去除NO2后金属的结晶状态,结果Pt只显示金属的峰值。在使用Cu/AC的情况下,还观察到被Cu2O和CuO氧化的状态,在使用CuO/AC的情况下,还存在被还原为Cu和Cu2O的状态。因此,Pt/AC和Cu/AC是用于NO2还原去除的有效催化剂,而Pt、Cu或Cu2O则作为活性炭对NO2的还原催化剂。
{"title":"The Effect of Metals Loaded on Activated Carbon on the Removal of NO_2","authors":"T. Shirakashi, Takami Moteki, Tomohiro Abe, T. Tamura, S. Yoshihara","doi":"10.1246/NIKKASHI.2002.421","DOIUrl":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2002.421","url":null,"abstract":"Ag,Pt,CuおよびCuOを担持させた活性炭を調製し,これによるNO2除去特性を調べた.活性炭はヤシガラ系のものを用い,金属の担持方法としては,金属イオンを含む溶液に活性炭を入れ,活性炭により直接金属にまで還元する方法および金属錯体として吸着させた後窒素中700 °Cで加熱,還元する方法を用いた.NO2は硝酸鉛の熱分解により発生させ,活性炭を充填したカラムに循環させた.Pt/ACおよびCu/ACを用いた場合,NO2は速やかに除去され,空気中と窒素中でのNO2の除去速度に大きな差は見られなかった.反応ガス中のHNO3,HNO2,NO,NH3はごくわずかであり,NO2はN2まで還元されることが示唆された.また,CuO/ACを用いた場合にもNO2の除去性はCu/ACとほぼ同一であり,Ag/ACによるNO2の除去性は小さかった.NO2除去後の金属の結晶状態をXRDで調べた結果,Ptは金属のピークのみを示した.Cu/ACを用いた場合にはCu2OおよびCuOに酸化された状態も観察され,CuO/ACを用いた場合にはCuおよびCu2Oに還元された状態も存在した.これらのことから,Pt/ACおよびCu/ACはNO2の還元除去に対する有効な触媒であり,Pt,CuあるいはCu2Oは活性炭によるNO2の還元触媒として作用している.","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":"51 1","pages":"421-426"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2002-03-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"73717684","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 1
コーヒー殻による水中の銅(II)およびカドミウム(II)の捕集除去 咖啡壳捕获水中的铜(II)和镉(II)
Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.459
南澤 麿優覽, 中嶋 すぎ子, 友紀 満江, 和江 宮澤, 慶子 上野, 愛 羽鳥, 冴子 宮島, 星野 真希枝, 吉田 章一郎, 信治 高井
Adsorption behavior of heavy metals on arabica and robusta roasted coffee beans treated in 5 roasting degrees was investigated. The coffee beans residue after extraction with hot water were suspended in aqueous solutions (pH = ca.6.6) containg Cu(II) or Cd(II) and the amount of heavy metal remaining in the solution was determined on an atomic absorption spectrophotometer. Adsorption ratios of Cu(II) were 60.5 and 79.6% for the light and French roasted coffee beans of Indonesia robusta employed as adsorbent, respectively. However, when the roasted coffee beans were washed with distilled water and then air-dried prior adsorption experiments, the adsorption ratios of Cu were 92.2 and 92.6%, respectively and that of Cd was 95.6 and 97.0%. Thus, the heavy metals were almost removed from aqueous solution by use of the roasted coffee beans with washing and drying treatments.
研究了5种焙烧温度下阿拉比卡和罗布斯塔咖啡豆对重金属的吸附行为。将热水萃取后的咖啡豆渣悬浮在pH = ca.6.6的含Cu(II)或Cd(II)的水溶液中,用原子吸收分光光度计测定溶液中重金属残留量。以印尼粗煮咖啡豆和法烘咖啡豆为吸附剂,对Cu(II)的吸附率分别为60.5%和79.6%。而焙烧后的咖啡豆经蒸馏水洗涤后风干后进行吸附实验,对Cu的吸附率分别为92.2%和92.6%,对Cd的吸附率分别为95.6%和97.0%。因此,使用经过洗涤和干燥处理的烘焙咖啡豆几乎可以从水溶液中去除重金属。
{"title":"コーヒー殻による水中の銅(II)およびカドミウム(II)の捕集除去","authors":"南澤 麿優覽, 中嶋 すぎ子, 友紀 満江, 和江 宮澤, 慶子 上野, 愛 羽鳥, 冴子 宮島, 星野 真希枝, 吉田 章一郎, 信治 高井","doi":"10.1246/NIKKASHI.2002.459","DOIUrl":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2002.459","url":null,"abstract":"Adsorption behavior of heavy metals on arabica and robusta roasted coffee beans treated in 5 roasting degrees was investigated. The coffee beans residue after extraction with hot water were suspended in aqueous solutions (pH = ca.6.6) containg Cu(II) or Cd(II) and the amount of heavy metal remaining in the solution was determined on an atomic absorption spectrophotometer. Adsorption ratios of Cu(II) were 60.5 and 79.6% for the light and French roasted coffee beans of Indonesia robusta employed as adsorbent, respectively. However, when the roasted coffee beans were washed with distilled water and then air-dried prior adsorption experiments, the adsorption ratios of Cu were 92.2 and 92.6%, respectively and that of Cd was 95.6 and 97.0%. Thus, the heavy metals were almost removed from aqueous solution by use of the roasted coffee beans with washing and drying treatments.","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":"24 1","pages":"459-461"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2002-03-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"77561207","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 7
分光光度法によるアルミニウム(III)と没食子酸との錯生成定数の決定 通过分光光度法确定铝(III)和没食子酸的错生常数
Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.329
栗原 正日呼, 裕子 濱邊, 美佳 池田, 秀則 新川, 大吉 僓美子
没食子酸(H4A)を配位子とし,Al(III)との間の錯体(1 : 1)生成反応を,分光光度法で調べた.酢酸緩衝剤を用いてpHを4–5に保持し,Al(III)イオンの濃度増加に伴う配位子の吸光度の減少量(pH一定下)から生成錯体種を解析した.この条件下では,Al(III)に対する没食子酸と酢酸イオン(緩衝剤)の競合反応および没食子酸に対するAl(III)と水素イオンの競合反応が起こっており,水素イオン濃度および酢酸イオン濃度の増加に伴いAl(III)-没食子酸錯体の生成量が減少した.没食子酸の酸解離定数とAl(III)-酢酸錯体の生成定数を用いて解析した結果,このpH領域での生成錯体種はAl(H2A)であり,Al(H3A)の存在は認められなかった.Al(H2A)の生成定数は,log K = 8.61 ± 0.02であった.この値は,没食子酸のpK2の値すなわち,配位子,H2A (酸解離したフェノール性ヒドロキシ基)の水素結合定数にほぼ等しいことがわかった.
以没食子酸(H4A)为配体,用分光光度法调查了与Al(III)之间的配合物(1∶1)生成反应。使用醋酸缓冲剂将pH保持在4 - 5,根据随着Al(III)离子浓度增加的配体吸光度减少量(pH恒定下)分析生成的配合物种类。在这个条件下,发生了没食子酸和乙酸离子(缓冲剂)对Al(III)的竞争反应以及Al(III)和氢离子对没食子酸的竞争反应,随着氢离子浓度和乙酸离子浓度的增加,Al(III)-没食子酸配合物的生成量减少。利用没食子酸的酸解离常数和Al(III)-乙酸配合物的生成常数进行分析的结果,在该pH区域生成的配合物种类为Al(H2A),不存在Al(H3A)。Al(H2A)的生成常数为log K = 8.61±0.02。该值几乎等于没食子酸pK2的值,即配体H2A(酸解离的酚性羟基)的氢键结合常数。
{"title":"分光光度法によるアルミニウム(III)と没食子酸との錯生成定数の決定","authors":"栗原 正日呼, 裕子 濱邊, 美佳 池田, 秀則 新川, 大吉 僓美子","doi":"10.1246/NIKKASHI.2002.329","DOIUrl":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2002.329","url":null,"abstract":"没食子酸(H4A)を配位子とし,Al(III)との間の錯体(1 : 1)生成反応を,分光光度法で調べた.酢酸緩衝剤を用いてpHを4–5に保持し,Al(III)イオンの濃度増加に伴う配位子の吸光度の減少量(pH一定下)から生成錯体種を解析した.この条件下では,Al(III)に対する没食子酸と酢酸イオン(緩衝剤)の競合反応および没食子酸に対するAl(III)と水素イオンの競合反応が起こっており,水素イオン濃度および酢酸イオン濃度の増加に伴いAl(III)-没食子酸錯体の生成量が減少した.没食子酸の酸解離定数とAl(III)-酢酸錯体の生成定数を用いて解析した結果,このpH領域での生成錯体種はAl(H2A)であり,Al(H3A)の存在は認められなかった.Al(H2A)の生成定数は,log K = 8.61 ± 0.02であった.この値は,没食子酸のpK2の値すなわち,配位子,H2A (酸解離したフェノール性ヒドロキシ基)の水素結合定数にほぼ等しいことがわかった.","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":"62 1","pages":"329-332"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2002-03-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"83968388","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 1
Charge Stabilization of Trimellitic Anhydride Microcapsule Toner 偏苯三酸酐微胶囊爽肤水的电荷稳定性
Pub Date : 2002-02-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.169
Katsuya Teshima, M. Aoyagi, Hikosaka Shin-ichi
印刷分野において発泡抑制剤として使用される,トリメリット酸無水物のマイクロカプセルトナーを,コアセルベーション法の一種である相分離(冷却造粒)法により作製した.冷却造粒法は樹脂溶解度の温度依存性を利用した相分離方法であり,マイクロカプセル壁の多層化を可能にした.前報2)で課題となっていたトナー帯電の不安定性は,しん物質であるトリメリット酸無水物と帯電制御剤(CCA)との反応に起因すると考えられていた.本研究では,材料面でCCAとして中性カルシウムペトロネートの選択,あるいは作製面でカプセル壁の多層化およびカプセルせん断力の緩和により,しん物質とCCAの反応を抑制することで,マイクロカプセルトナー帯電を安定化させた.本研究で作製されたマイクロカプセルトナーは,印刷分野で要求される発泡抑制性能基準を十分に満たしていた.
日前,该公司利用相分离(冷却造粒)方法,制备出了在印刷领域作为发泡抑制剂使用的三聚利酸酐微胶囊。冷却造粒法是利用树脂溶解度对温度的依赖性的相分离方法,实现了微胶囊壁的多层化。在前一报告2)中提出的课题——调色剂带电不稳定性,被认为是由新物质三氯酸酐与带电控制剂(CCA)之间的反应引起的。本研究通过在材料方面选择中性钙petronate作为CCA,或者在制备方面通过胶囊壁的多层化和缓解胶囊剪切力,抑制新物质和CCA的反应,稳定了微型封装和纳电。通过本研究制作的微胶囊调色剂充分满足了印刷领域对抑制发泡性能的要求。
{"title":"Charge Stabilization of Trimellitic Anhydride Microcapsule Toner","authors":"Katsuya Teshima, M. Aoyagi, Hikosaka Shin-ichi","doi":"10.1246/NIKKASHI.2002.169","DOIUrl":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2002.169","url":null,"abstract":"印刷分野において発泡抑制剤として使用される,トリメリット酸無水物のマイクロカプセルトナーを,コアセルベーション法の一種である相分離(冷却造粒)法により作製した.冷却造粒法は樹脂溶解度の温度依存性を利用した相分離方法であり,マイクロカプセル壁の多層化を可能にした.前報2)で課題となっていたトナー帯電の不安定性は,しん物質であるトリメリット酸無水物と帯電制御剤(CCA)との反応に起因すると考えられていた.本研究では,材料面でCCAとして中性カルシウムペトロネートの選択,あるいは作製面でカプセル壁の多層化およびカプセルせん断力の緩和により,しん物質とCCAの反応を抑制することで,マイクロカプセルトナー帯電を安定化させた.本研究で作製されたマイクロカプセルトナーは,印刷分野で要求される発泡抑制性能基準を十分に満たしていた.","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":"11 1","pages":"169-173"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2002-02-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"88878562","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
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期刊
Nippon Kagaku Kaishi
全部 Acc. Chem. Res. ACS Applied Bio Materials ACS Appl. Electron. Mater. ACS Appl. Energy Mater. ACS Appl. Mater. Interfaces ACS Appl. Nano Mater. ACS Appl. Polym. Mater. ACS BIOMATER-SCI ENG ACS Catal. ACS Cent. Sci. ACS Chem. Biol. ACS Chemical Health & Safety ACS Chem. Neurosci. ACS Comb. Sci. ACS Earth Space Chem. ACS Energy Lett. ACS Infect. Dis. ACS Macro Lett. ACS Mater. Lett. ACS Med. Chem. Lett. ACS Nano ACS Omega ACS Photonics ACS Sens. ACS Sustainable Chem. Eng. ACS Synth. Biol. Anal. Chem. BIOCHEMISTRY-US Bioconjugate Chem. BIOMACROMOLECULES Chem. Res. Toxicol. Chem. Rev. Chem. Mater. CRYST GROWTH DES ENERG FUEL Environ. Sci. Technol. Environ. Sci. Technol. Lett. Eur. J. Inorg. Chem. IND ENG CHEM RES Inorg. Chem. J. Agric. Food. Chem. J. Chem. Eng. Data J. Chem. Educ. J. Chem. Inf. Model. J. Chem. Theory Comput. J. Med. Chem. J. Nat. Prod. J PROTEOME RES J. Am. Chem. Soc. LANGMUIR MACROMOLECULES Mol. Pharmaceutics Nano Lett. Org. Lett. ORG PROCESS RES DEV ORGANOMETALLICS J. Org. Chem. J. Phys. Chem. J. Phys. Chem. A J. Phys. Chem. B J. Phys. Chem. C J. Phys. Chem. Lett. Analyst Anal. Methods Biomater. Sci. Catal. Sci. Technol. Chem. Commun. Chem. Soc. Rev. CHEM EDUC RES PRACT CRYSTENGCOMM Dalton Trans. Energy Environ. Sci. ENVIRON SCI-NANO ENVIRON SCI-PROC IMP ENVIRON SCI-WAT RES Faraday Discuss. Food Funct. Green Chem. Inorg. Chem. Front. Integr. Biol. J. Anal. At. Spectrom. J. Mater. Chem. A J. Mater. Chem. B J. Mater. Chem. C Lab Chip Mater. Chem. Front. Mater. Horiz. MEDCHEMCOMM Metallomics Mol. Biosyst. Mol. Syst. Des. Eng. Nanoscale Nanoscale Horiz. Nat. Prod. Rep. New J. Chem. Org. Biomol. Chem. Org. Chem. Front. PHOTOCH PHOTOBIO SCI PCCP Polym. Chem.
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