LB法および自己凝集法により作製した超薄膜の電子スペクトル—4-(4-オクタデシルオキシフェニル)エチニルピリジン—

Abstract

両親媒性物質，4-(4-オクタデシルオキシフェニル)エチニルピリジン(ODOP)を新たに合成し，この物質の超薄膜をLB法および自己凝集法により作製した．ODOPのLB膜作製における最適表面圧は，49.0 mN m−1であった．自己組織化膜は，溶質濃度が3.0 × 10−4 mol dm−3以下では形成されないことがわかった．すなわち，ODOPの自己組織化膜を形成する際には，溶質の濃度に限界値がある．これらの膜の電子的性質を電子吸収，偏光吸収およびX線光電子スペクトルの立場から考察した．両方法により作製したODOPの超薄膜の構造は，同一であることがわかった．種々の表面圧で作製したLB膜のX線光電子スペクトルを測定した．単分子的に分散した系でODOPは316.9 nm(シクロヘキサン中)に第一吸収帯を示す．超薄膜を形成すると，この第一吸収帯は二つの帯，すなわち強度の強い306 nm帯と弱い ≈350 nm帯に分裂する．このスペクトル変化を励起子モデルにより考察した結果，超薄膜内での分子の配列はHerring bone構造であることが示唆された．