{"title":"由布里奇曼方法培育的多晶体硅杂质分布","authors":"","doi":"10.34077/rcsp2019-35","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"В последние годы в технологии фотоэлектрических преобразователей на основе\nмультикристаллического кремния (mc-Si) существенной альтернативой стало использование n-типа\nпроводимости в качестве материала исходной подложки наряду с традиционным р-типом. Показано,\nчто в слитках n типа высокие значения времени жизни неравновесных носителей заряда (вплоть до 1\nмс) обусловлены не столько фундаментальным отличием электронов от дырок, сколько отсутствием\nглубоких уровней, характерных именно для mc-Si p-типа [1]. Например, это уровни, связанные с\nобразованием комплексов В-О и Fe-B. Актуальной альтернативой, снижающей себестоимость\nкремниевых пластин, является использование металлургического кремния высокой чистоты (UMGSi, 5N-6N) в качестве исходной для выращивания слитков загрузки. Однако, не все присутствующие в\nнём примеси и не всегда образуют монотонно возрастающий профиль распределения,\nсоответствующий конкретному значению эффективного распределения (<1) конкретной примеси [2].\nПомимо начальной концентрации примеси, скорости и формы фронта кристаллизации, процессов в\nрасплаве, необходимо учитывать еще и зёренно-граничную структуру слитка, распределение\nдислокаций. Неравномерность распределения примесей в mc-Si в существенной мере связана с\nпроцессами сегрегации примесей на межзёренных границах общего типа и дислокациях [3]. В\nнастоящей работе мы рассматриваем особенности взаимодействия 19 элементов примесей между\nсобой в зависимости от формируемой макроструктуры слитка. Процессы сегрегации примесей\nсвязаны не только с границами общего типа и дислокациями, но и с распределением их в виде\nмикровключений в зёрнах [4]. Причем, микровключения различных составов по-разному влияют на\nраспределение времени жизни ННЗ в объеме слитка мультикремния. А состав микровключения, в\nсвою очередь, связан с кристаллографическими особенностями зерна: более плотноупакованные\nотносительно плоскости фронта кристаллизации зёрна (зёрна с высокой ретикулярной плотностью)\nсущественно меньше содержат микровключений и дислокаций, чем зёрна с более низкой\nретикулярной плотностью. Влиять на процессы распределения примесей в процессе кристаллизации,\nтаким образом, представляется возможным благодаря обеспечению особых тепловых и скоростных\nрежимов направленной кристаллизации. Это перспективное направление исследований позволит\nдостичь высокой эффективности фотоэлектропреобразователей на основе мультикремния и\nсущественно снизить их себестоимость за счёт использования в качестве исходного сырья UMG-Si.","PeriodicalId":118786,"journal":{"name":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","volume":"26 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2019-05-24","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":"{\"title\":\"Распределение примесей в мультикристаллическом кремнии, выращенном\\nиз UMG-кремния методом Бриджмена\",\"authors\":\"\",\"doi\":\"10.34077/rcsp2019-35\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"В последние годы в технологии фотоэлектрических преобразователей на основе\\nмультикристаллического кремния (mc-Si) существенной альтернативой стало использование n-типа\\nпроводимости в качестве материала исходной подложки наряду с традиционным р-типом. Показано,\\nчто в слитках n типа высокие значения времени жизни неравновесных носителей заряда (вплоть до 1\\nмс) обусловлены не столько фундаментальным отличием электронов от дырок, сколько отсутствием\\nглубоких уровней, характерных именно для mc-Si p-типа [1]. Например, это уровни, связанные с\\nобразованием комплексов В-О и Fe-B. Актуальной альтернативой, снижающей себестоимость\\nкремниевых пластин, является использование металлургического кремния высокой чистоты (UMGSi, 5N-6N) в качестве исходной для выращивания слитков загрузки. Однако, не все присутствующие в\\nнём примеси и не всегда образуют монотонно возрастающий профиль распределения,\\nсоответствующий конкретному значению эффективного распределения (<1) конкретной примеси [2].\\nПомимо начальной концентрации примеси, скорости и формы фронта кристаллизации, процессов в\\nрасплаве, необходимо учитывать еще и зёренно-граничную структуру слитка, распределение\\nдислокаций. Неравномерность распределения примесей в mc-Si в существенной мере связана с\\nпроцессами сегрегации примесей на межзёренных границах общего типа и дислокациях [3]. В\\nнастоящей работе мы рассматриваем особенности взаимодействия 19 элементов примесей между\\nсобой в зависимости от формируемой макроструктуры слитка. Процессы сегрегации примесей\\nсвязаны не только с границами общего типа и дислокациями, но и с распределением их в виде\\nмикровключений в зёрнах [4]. Причем, микровключения различных составов по-разному влияют на\\nраспределение времени жизни ННЗ в объеме слитка мультикремния. А состав микровключения, в\\nсвою очередь, связан с кристаллографическими особенностями зерна: более плотноупакованные\\nотносительно плоскости фронта кристаллизации зёрна (зёрна с высокой ретикулярной плотностью)\\nсущественно меньше содержат микровключений и дислокаций, чем зёрна с более низкой\\nретикулярной плотностью. Влиять на процессы распределения примесей в процессе кристаллизации,\\nтаким образом, представляется возможным благодаря обеспечению особых тепловых и скоростных\\nрежимов направленной кристаллизации. Это перспективное направление исследований позволит\\nдостичь высокой эффективности фотоэлектропреобразователей на основе мультикремния и\\nсущественно снизить их себестоимость за счёт использования в качестве исходного сырья UMG-Si.\",\"PeriodicalId\":118786,\"journal\":{\"name\":\"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»\",\"volume\":\"26 1\",\"pages\":\"0\"},\"PeriodicalIF\":0.0000,\"publicationDate\":\"2019-05-24\",\"publicationTypes\":\"Journal Article\",\"fieldsOfStudy\":null,\"isOpenAccess\":false,\"openAccessPdf\":\"\",\"citationCount\":\"0\",\"resultStr\":null,\"platform\":\"Semanticscholar\",\"paperid\":null,\"PeriodicalName\":\"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»\",\"FirstCategoryId\":\"1085\",\"ListUrlMain\":\"https://doi.org/10.34077/rcsp2019-35\",\"RegionNum\":0,\"RegionCategory\":null,\"ArticlePicture\":[],\"TitleCN\":null,\"AbstractTextCN\":null,\"PMCID\":null,\"EPubDate\":\"\",\"PubModel\":\"\",\"JCR\":\"\",\"JCRName\":\"\",\"Score\":null,\"Total\":0}","platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Тезисы докладов Российской конференции и школы молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники «ФОТОНИКА-2019»","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/rcsp2019-35","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0

摘要

近年来,光电转换器技术(mc-Si)的一个重要选择是使用n型导电作为原始基质和传统的r型材料。结果显示,在n型钢条中,非平衡电荷载体的高寿命(直到1mc)与其说是电子与空穴的根本区别,不如说是mc-Si p型(1)缺乏深层层次。例如,这些级别是由B - o和Fe-B综合体的相互关联的。降低石板成本的可行选择是使用高纯度金属硅(UMGSi, 5N-6N)作为种植加载棒的来源。然而,并不是所有的杂质都是单调增加的分布概要,与有效的杂质(<1)的具体意义(2)相对应。除结晶前线的初始浓度、速度和形状、熔化过程外,还必须考虑到金条、分层结构。mc-Si中的杂质分布不均匀程度在很大程度上是由于在一般类型的灰色边界上的杂质隔离和部署(3)。在本文中,我们考虑了19个相互作用的特征,这取决于构建的块宏观结构。杂质隔离过程不仅与一般类型的边界和分布有关,而且与种子中视频微量化合物的分布有关。此外,不同成分的微量包含对nis生命时间的分配方式有不同的影响。微积分的组成,按顺序排列,与谷物的结晶特征有关:相对于细胞核结晶面(网状密度较高的谷粒),其微量结晶(网状密度较低的谷粒)含有较少的微量结晶和部署。因此,通过提供特定的热和快速结晶模式,可以影响结晶过程中的杂质分布。这是一个很有前途的研究方向,可以让多硅光电转换器效率很高,并通过使用UMG-Si的原料大幅降低成本。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
查看原文
分享 分享
微信好友 朋友圈 QQ好友 复制链接
本刊更多论文
Распределение примесей в мультикристаллическом кремнии, выращенном из UMG-кремния методом Бриджмена
В последние годы в технологии фотоэлектрических преобразователей на основе мультикристаллического кремния (mc-Si) существенной альтернативой стало использование n-типа проводимости в качестве материала исходной подложки наряду с традиционным р-типом. Показано, что в слитках n типа высокие значения времени жизни неравновесных носителей заряда (вплоть до 1 мс) обусловлены не столько фундаментальным отличием электронов от дырок, сколько отсутствием глубоких уровней, характерных именно для mc-Si p-типа [1]. Например, это уровни, связанные с образованием комплексов В-О и Fe-B. Актуальной альтернативой, снижающей себестоимость кремниевых пластин, является использование металлургического кремния высокой чистоты (UMGSi, 5N-6N) в качестве исходной для выращивания слитков загрузки. Однако, не все присутствующие в нём примеси и не всегда образуют монотонно возрастающий профиль распределения, соответствующий конкретному значению эффективного распределения (<1) конкретной примеси [2]. Помимо начальной концентрации примеси, скорости и формы фронта кристаллизации, процессов в расплаве, необходимо учитывать еще и зёренно-граничную структуру слитка, распределение дислокаций. Неравномерность распределения примесей в mc-Si в существенной мере связана с процессами сегрегации примесей на межзёренных границах общего типа и дислокациях [3]. В настоящей работе мы рассматриваем особенности взаимодействия 19 элементов примесей между собой в зависимости от формируемой макроструктуры слитка. Процессы сегрегации примесей связаны не только с границами общего типа и дислокациями, но и с распределением их в виде микровключений в зёрнах [4]. Причем, микровключения различных составов по-разному влияют на распределение времени жизни ННЗ в объеме слитка мультикремния. А состав микровключения, в свою очередь, связан с кристаллографическими особенностями зерна: более плотноупакованные относительно плоскости фронта кристаллизации зёрна (зёрна с высокой ретикулярной плотностью) существенно меньше содержат микровключений и дислокаций, чем зёрна с более низкой ретикулярной плотностью. Влиять на процессы распределения примесей в процессе кристаллизации, таким образом, представляется возможным благодаря обеспечению особых тепловых и скоростных режимов направленной кристаллизации. Это перспективное направление исследований позволит достичь высокой эффективности фотоэлектропреобразователей на основе мультикремния и существенно снизить их себестоимость за счёт использования в качестве исходного сырья UMG-Si.
求助全文
通过发布文献求助,成功后即可免费获取论文全文。 去求助
来源期刊
自引率
0.00%
发文量
0
期刊最新文献
Быстродействующие вертикально-излучающие лазеры диапазона 1550 нм Влияние приповерхностного изгиба зон на фотоэмиссионные характеристики p-GaN(Cs,O) фотокатодов Влияние ступенчатого профиля состава на формирование инверсии в пленках материала кадмий-ртуть-теллур Электрофизические и оптические свойства органических светодиодных структур с эмиссионным слоем ЯК-203 Функциональные оптические элементы и устройства терагерцовой фотоники на основе метаповерхностей
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
现在去查看 取消
×
提示
确定
0
微信
客服QQ
Book学术公众号 扫码关注我们
反馈
×
意见反馈
请填写您的意见或建议
请填写您的手机或邮箱
已复制链接
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
×
扫码分享
扫码分享
Book学术官方微信
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:481959085
Book学术
文献互助 智能选刊 最新文献 互助须知 联系我们:info@booksci.cn
Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。
Copyright © 2023 Book学术 All rights reserved.
ghs 京公网安备 11010802042870号 京ICP备2023020795号-1