Визначення засобів забезпечення якості форм інтагліодруку

Сучасний спосіб виготовлення форм інтагліодруку — технологія прямого лазерного гравіювання (DLE — Direct Laser Engraving) має низку переваг та технологічних можливостей порівняно з традиційною технологією травлення, однак, особливості обробки матеріалів форм лазером та подальшого нанесення захисного нітрид-хромового покриття вакуумним напиленням (PVD) можуть викликати зниження тиражостійкості форм порівняно із традиційними технологіями виготовлення форм. Тому технологія прямого лазерного гравіювання з подальшим нанесенням захисного нітрид-хромового покриття PVD потребує удосконалення режимів гравіювання, оброблення форм після видалення напливів та PVD. На основі проведеного аналізу результатів комплексу досліджень з різних аспектів формування параметрів якості форм інтагліодруку, що виготовляються за методом DLE + PVD, за методом МАІ, сформовано домінантну ієрархію, за якою можливо в перспективі обрати один з варіантів технологічного процесу виготовлення форм. В результаті декомпозиції проблеми визначено, що альтернативні варіанти технологічного процесу в подальшому мають бути оптимізовані з урахуванням дій акторів — факторів впливу на досягнення глобальної мети — якісної форми інтагліодруку (такої, що забезпечує отримання максимальної кількості відбитків належної якості (чіткості і тактильності)). Визначено та кластеризовано фактори впливу: корегування режимів DLE (потужність випромінювання, вид обладнання, що відрізняється довжиною хвилі випромінювання); корегування параметрів штрихів (незалежних від заданих дизайном — вид профілю, симетричність профілю, кут нахилу стінок штриха, глибина (у визначених межах), співвідношення глибини і ширини); корегування режимів оброблення після DLE (хімічного очищення чи хімічного і механічного очищення); корегування режимів попереднього оброблення PVD (тривалість, інтенсивність та вид іонно-плазмового травлення латунної пластини у камері вакуумного напилення перед нанесенням захисного покриття); корегування режимів PVD (товщина захисного покриття (час напилення), відсотковий склад газової суміші Ar-N2 в камері напилення, склад (легування) хромової мішені, температура підкладки (форми) під час PVD). Встановлено вагомість усіх факторів та підфакторів, що дозволяє зробити висновок щодо пріоритетних напрямів подальших досліджень (удосконалення обладнання DLE та PVD), а також заходів в межах дизайну форм.