Budi Astuti, S. Sugianto, Ida Maftuchah, Nur Arina Firmahaya, P. Marwoto, Nurhamid Nurhamid, Teguh Darsono, Didik Aryanto, Isnaeni Isnaeni
{"title":"等离子体对光致发光性能的影响","authors":"Budi Astuti, S. Sugianto, Ida Maftuchah, Nur Arina Firmahaya, P. Marwoto, Nurhamid Nurhamid, Teguh Darsono, Didik Aryanto, Isnaeni Isnaeni","doi":"10.15294/ik.v1i1.66","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Film tipis ZnO doping Al (ZnO:Al) dideposisi pada substrat corning glass menggunakan metode DC magnetron sputtering. Proses deposisi film tipis ZnO:Al dijaga konstan pada tekanan Argon, suhu deposisi, dan waktu deposisi masing-masing 500 mTorr, 400 ℃, dan 2 jam. Selanjutnya, proses deposisi film tipis ZnO:Al menggunakan variasi daya plasma yaitu 33, 43, dan 50 watt. Karakterisasi sifat optik film tipis ZnO:Al menggunakan Photoluminescence spektroskopi. Daya plasma yang berbeda dapat mempengaruhi energi ion dan momentum tumbukannya. Perbedaan daya plasma tersebut memiliki efek terhadap kualitas film tipis yang dihasilkan, dimana peningkatan daya plasma menyebabkan kualitas film tipis yang dihasilkan semakin baik.","PeriodicalId":30980,"journal":{"name":"Jurnal Inovasi Pendidikan Kimia","volume":"34 1","pages":""},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2022-05-19","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"2","resultStr":"{\"title\":\"EFEK DAYA PLASMA TERHADAP SIFAT FOTOLUMINESEN FILM TIPIS ZnO DOPING Al\",\"authors\":\"Budi Astuti, S. Sugianto, Ida Maftuchah, Nur Arina Firmahaya, P. Marwoto, Nurhamid Nurhamid, Teguh Darsono, Didik Aryanto, Isnaeni Isnaeni\",\"doi\":\"10.15294/ik.v1i1.66\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"Film tipis ZnO doping Al (ZnO:Al) dideposisi pada substrat corning glass menggunakan metode DC magnetron sputtering. Proses deposisi film tipis ZnO:Al dijaga konstan pada tekanan Argon, suhu deposisi, dan waktu deposisi masing-masing 500 mTorr, 400 ℃, dan 2 jam. Selanjutnya, proses deposisi film tipis ZnO:Al menggunakan variasi daya plasma yaitu 33, 43, dan 50 watt. Karakterisasi sifat optik film tipis ZnO:Al menggunakan Photoluminescence spektroskopi. Daya plasma yang berbeda dapat mempengaruhi energi ion dan momentum tumbukannya. Perbedaan daya plasma tersebut memiliki efek terhadap kualitas film tipis yang dihasilkan, dimana peningkatan daya plasma menyebabkan kualitas film tipis yang dihasilkan semakin baik.\",\"PeriodicalId\":30980,\"journal\":{\"name\":\"Jurnal Inovasi Pendidikan Kimia\",\"volume\":\"34 1\",\"pages\":\"\"},\"PeriodicalIF\":0.0000,\"publicationDate\":\"2022-05-19\",\"publicationTypes\":\"Journal Article\",\"fieldsOfStudy\":null,\"isOpenAccess\":false,\"openAccessPdf\":\"\",\"citationCount\":\"2\",\"resultStr\":null,\"platform\":\"Semanticscholar\",\"paperid\":null,\"PeriodicalName\":\"Jurnal Inovasi Pendidikan Kimia\",\"FirstCategoryId\":\"1085\",\"ListUrlMain\":\"https://doi.org/10.15294/ik.v1i1.66\",\"RegionNum\":0,\"RegionCategory\":null,\"ArticlePicture\":[],\"TitleCN\":null,\"AbstractTextCN\":null,\"PMCID\":null,\"EPubDate\":\"\",\"PubModel\":\"\",\"JCR\":\"\",\"JCRName\":\"\",\"Score\":null,\"Total\":0}","platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Jurnal Inovasi Pendidikan Kimia","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.15294/ik.v1i1.66","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 2
摘要
细片ZnO doping Al (ZnO:Al)使用直流磁溅射法在接地玻璃下定位。ZnO的薄膜沉积的过程:艾尔温度恒定压力氩把守着,时间和证词,证词,每人50 mTorr 400℃,2个小时。接下来,Al使用等离子体的强度变化为33、43和50瓦。ZnO细胶片光学特性的描述:Al使用光致发光。不同等离子体的力量可以影响离子的能量和膨胀的动量。这种强度的差异对电影的质量产生了影响,从而增加了对电影质量的影响。
EFEK DAYA PLASMA TERHADAP SIFAT FOTOLUMINESEN FILM TIPIS ZnO DOPING Al
Film tipis ZnO doping Al (ZnO:Al) dideposisi pada substrat corning glass menggunakan metode DC magnetron sputtering. Proses deposisi film tipis ZnO:Al dijaga konstan pada tekanan Argon, suhu deposisi, dan waktu deposisi masing-masing 500 mTorr, 400 ℃, dan 2 jam. Selanjutnya, proses deposisi film tipis ZnO:Al menggunakan variasi daya plasma yaitu 33, 43, dan 50 watt. Karakterisasi sifat optik film tipis ZnO:Al menggunakan Photoluminescence spektroskopi. Daya plasma yang berbeda dapat mempengaruhi energi ion dan momentum tumbukannya. Perbedaan daya plasma tersebut memiliki efek terhadap kualitas film tipis yang dihasilkan, dimana peningkatan daya plasma menyebabkan kualitas film tipis yang dihasilkan semakin baik.