等离子体对光致发光性能的影响

Budi Astuti, S. Sugianto, Ida Maftuchah, Nur Arina Firmahaya, P. Marwoto, Nurhamid Nurhamid, Teguh Darsono, Didik Aryanto, Isnaeni Isnaeni
{"title":"等离子体对光致发光性能的影响","authors":"Budi Astuti, S. Sugianto, Ida Maftuchah, Nur Arina Firmahaya, P. Marwoto, Nurhamid Nurhamid, Teguh Darsono, Didik Aryanto, Isnaeni Isnaeni","doi":"10.15294/ik.v1i1.66","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Film tipis ZnO doping Al (ZnO:Al) dideposisi pada substrat corning glass menggunakan metode DC magnetron sputtering. Proses deposisi film tipis ZnO:Al dijaga konstan pada tekanan Argon, suhu deposisi, dan waktu deposisi masing-masing 500 mTorr, 400 ℃, dan 2 jam. Selanjutnya, proses deposisi film tipis ZnO:Al menggunakan variasi daya plasma yaitu 33, 43, dan 50 watt. Karakterisasi sifat optik film tipis ZnO:Al menggunakan Photoluminescence spektroskopi. Daya plasma yang berbeda dapat mempengaruhi energi ion dan momentum tumbukannya. Perbedaan daya plasma tersebut memiliki efek terhadap kualitas film tipis yang dihasilkan, dimana peningkatan daya plasma menyebabkan kualitas film tipis yang dihasilkan semakin baik.","PeriodicalId":30980,"journal":{"name":"Jurnal Inovasi Pendidikan Kimia","volume":"34 1","pages":""},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2022-05-19","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"2","resultStr":"{\"title\":\"EFEK DAYA PLASMA TERHADAP SIFAT FOTOLUMINESEN FILM TIPIS ZnO DOPING Al\",\"authors\":\"Budi Astuti, S. Sugianto, Ida Maftuchah, Nur Arina Firmahaya, P. Marwoto, Nurhamid Nurhamid, Teguh Darsono, Didik Aryanto, Isnaeni Isnaeni\",\"doi\":\"10.15294/ik.v1i1.66\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"Film tipis ZnO doping Al (ZnO:Al) dideposisi pada substrat corning glass menggunakan metode DC magnetron sputtering. Proses deposisi film tipis ZnO:Al dijaga konstan pada tekanan Argon, suhu deposisi, dan waktu deposisi masing-masing 500 mTorr, 400 ℃, dan 2 jam. Selanjutnya, proses deposisi film tipis ZnO:Al menggunakan variasi daya plasma yaitu 33, 43, dan 50 watt. Karakterisasi sifat optik film tipis ZnO:Al menggunakan Photoluminescence spektroskopi. Daya plasma yang berbeda dapat mempengaruhi energi ion dan momentum tumbukannya. Perbedaan daya plasma tersebut memiliki efek terhadap kualitas film tipis yang dihasilkan, dimana peningkatan daya plasma menyebabkan kualitas film tipis yang dihasilkan semakin baik.\",\"PeriodicalId\":30980,\"journal\":{\"name\":\"Jurnal Inovasi Pendidikan Kimia\",\"volume\":\"34 1\",\"pages\":\"\"},\"PeriodicalIF\":0.0000,\"publicationDate\":\"2022-05-19\",\"publicationTypes\":\"Journal Article\",\"fieldsOfStudy\":null,\"isOpenAccess\":false,\"openAccessPdf\":\"\",\"citationCount\":\"2\",\"resultStr\":null,\"platform\":\"Semanticscholar\",\"paperid\":null,\"PeriodicalName\":\"Jurnal Inovasi Pendidikan Kimia\",\"FirstCategoryId\":\"1085\",\"ListUrlMain\":\"https://doi.org/10.15294/ik.v1i1.66\",\"RegionNum\":0,\"RegionCategory\":null,\"ArticlePicture\":[],\"TitleCN\":null,\"AbstractTextCN\":null,\"PMCID\":null,\"EPubDate\":\"\",\"PubModel\":\"\",\"JCR\":\"\",\"JCRName\":\"\",\"Score\":null,\"Total\":0}","platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Jurnal Inovasi Pendidikan Kimia","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.15294/ik.v1i1.66","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 2

摘要

细片ZnO doping Al (ZnO:Al)使用直流磁溅射法在接地玻璃下定位。ZnO的薄膜沉积的过程:艾尔温度恒定压力氩把守着,时间和证词,证词,每人50 mTorr 400℃,2个小时。接下来,Al使用等离子体的强度变化为33、43和50瓦。ZnO细胶片光学特性的描述:Al使用光致发光。不同等离子体的力量可以影响离子的能量和膨胀的动量。这种强度的差异对电影的质量产生了影响,从而增加了对电影质量的影响。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
查看原文
分享 分享
微信好友 朋友圈 QQ好友 复制链接
本刊更多论文
EFEK DAYA PLASMA TERHADAP SIFAT FOTOLUMINESEN FILM TIPIS ZnO DOPING Al
Film tipis ZnO doping Al (ZnO:Al) dideposisi pada substrat corning glass menggunakan metode DC magnetron sputtering. Proses deposisi film tipis ZnO:Al dijaga konstan pada tekanan Argon, suhu deposisi, dan waktu deposisi masing-masing 500 mTorr, 400 ℃, dan 2 jam. Selanjutnya, proses deposisi film tipis ZnO:Al menggunakan variasi daya plasma yaitu 33, 43, dan 50 watt. Karakterisasi sifat optik film tipis ZnO:Al menggunakan Photoluminescence spektroskopi. Daya plasma yang berbeda dapat mempengaruhi energi ion dan momentum tumbukannya. Perbedaan daya plasma tersebut memiliki efek terhadap kualitas film tipis yang dihasilkan, dimana peningkatan daya plasma menyebabkan kualitas film tipis yang dihasilkan semakin baik.
求助全文
通过发布文献求助,成功后即可免费获取论文全文。 去求助
来源期刊
自引率
0.00%
发文量
22
审稿时长
24 weeks
期刊最新文献
Modul Etnokimia Terintegrasi Nilai Islami pada Pembelajaran Berbasis Proyek untuk Melatih Kreativitas Analisis Pemahaman Konsep dan Kesulitan Siswa Kelas XI pada Materi Hidrolisis Garam Menggunakan Tes TTMC dan TwTMC dengan Model Problem-Based Learning Upaya Peningkatan Pengetahuan serta Sikap Siswa melalui Pengembangan LKPD PBL Terintegrasi Literasi Lingkungan Pengembangan Instrumen Tes Three-Tier Multiple Choice berbantuan Google Form untuk Mengukur Kemampuan Berpikir Kritis Siswa pada Topik Stoikiometri Penerapan Model Pembelajaran Berbasis Masalah Berbantuan Media QuizWhizzer dalam Meningkatkan Pemahaman Konsep Siswa pada Materi Larutan Penyangga
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
现在去查看 取消
×
提示
确定
0
微信
客服QQ
Book学术公众号 扫码关注我们
反馈
×
意见反馈
请填写您的意见或建议
请填写您的手机或邮箱
已复制链接
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
×
扫码分享
扫码分享
Book学术官方微信
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:481959085
Book学术
文献互助 智能选刊 最新文献 互助须知 联系我们:info@booksci.cn
Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。
Copyright © 2023 Book学术 All rights reserved.
ghs 京公网安备 11010802042870号 京ICP备2023020795号-1