准分子激光步进与通过透镜对准。

N. Uchida, O. Kuwabara, T. Tojyo, T. Higashiki, Yoshihiko Takahashi, H. Yoshino
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摘要

以开发线宽0.5μm以下的LSI器件为目的,试制了准分子激光曝光装置,并对其性能进行了评价。本装置配备了过去对准分子激光曝光装置来说比较困难的TTL对准系统,以提高对准性能。另外,为了提高定位精度,晶片级系统每次曝光时都采用晶片设置了斜率修正机构和XY级的行走性能补偿机构,结果,整个曝光区域均有0.35μm左右的图形成像,获得了比0.1μm更好的叠加精度。由此证实,该装置对线宽0.5μm以下的器件开发十分有效。
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An Excimer Laser Stepper with Through-the-Lens Alignment.
線幅0.5μm以下のLSIのデバイス開発を目的として,エキシマレーザ露光装置を試作し,その性能を評価した.本装置では,これまでエキシマレーザ露光装置では困難と考えられていたTTLアライメント系を搭載しアライメント性能の向上を計った.さらに,位置決め精度の向上のために,ウエハステージ系には露光ごとにウエハの傾きを補正する機構やXYステージの走行性能を補償するためのヨーイング補正機構を設けた.この結果,露光領域全域について0.35μm程度のパターンが解像し,0.1μmより良い重ね合わせ精度が得られた.これにより,本装置が線幅0.5μm以下のデバイス開発に有効であることが実証できた.
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