通过N,N-二乙基氨基硅烷类的氨酰作用合成高分子量聚硅烷

Nippon Kagaku Kaishi Pub Date : 2001-10-10 DOI:10.1246/NIKKASHI.2001.559

芳首阿部, 孝次依田, 圭晃工藤, 澄幸村山, 天博郡司

{"title":"通过N,N-二乙基氨基硅烷类的氨酰作用合成高分子量聚硅烷","authors":"芳首阿部, 孝次依田, 圭晃工藤, 澄幸村山, 天博郡司","doi":"10.1246/NIKKASHI.2001.559","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"クロロ(N,N-ジエチルアミノ)シランおよびビス(N,N-ジエチルアミノ)シランのアンモノリシスによりポリシラザンHPZ1およびHPZ2を合成した．HPZ1およびHPZ2は自己縮合に対する安定性が低く，分子量約1000，[H2Si(NH)]nを主骨格とするポリシラザンであった．HPZ1およびHPZ2は，希薄溶液あるいはクロロ(トリメチル)シランによりシリル化体とすることにより自己縮合が抑制され，テトラヒドロフランやエーテルなどの溶液として扱えた．一方，ポリシラザンの35 wt% (HPZ1)および45 wt% (HPZ2)THF溶液を20 °Cで放置すると，最高で重量平均分子量85000 (HPZ1)および45000 (HPZ2)のポリシラザンが生成することがわかった．","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":"54 1","pages":"559-565"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2001-10-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":"{\"title\":\"N,N-ジエチルアミノシラン類のアンモノリシスによる高分子量ポリシラザンの合成\",\"authors\":\"芳首阿部, 孝次依田, 圭晃工藤, 澄幸村山, 天博郡司\",\"doi\":\"10.1246/NIKKASHI.2001.559\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"クロロ(N,N-ジエチルアミノ)シランおよびビス(N,N-ジエチルアミノ)シランのアンモノリシスによりポリシラザンHPZ1およびHPZ2を合成した．HPZ1およびHPZ2は自己縮合に対する安定性が低く，分子量約1000，[H2Si(NH)]nを主骨格とするポリシラザンであった．HPZ1およびHPZ2は，希薄溶液あるいはクロロ(トリメチル)シランによりシリル化体とすることにより自己縮合が抑制され，テトラヒドロフランやエーテルなどの溶液として扱えた．一方，ポリシラザンの35 wt% (HPZ1)および45 wt% (HPZ2)THF溶液を20 °Cで放置すると，最高で重量平均分子量85000 (HPZ1)および45000 (HPZ2)のポリシラザンが生成することがわかった．\",\"PeriodicalId\":19311,\"journal\":{\"name\":\"Nippon Kagaku Kaishi\",\"volume\":\"54 1\",\"pages\":\"559-565\"},\"PeriodicalIF\":0.0000,\"publicationDate\":\"2001-10-10\",\"publicationTypes\":\"Journal Article\",\"fieldsOfStudy\":null,\"isOpenAccess\":false,\"openAccessPdf\":\"\",\"citationCount\":\"0\",\"resultStr\":null,\"platform\":\"Semanticscholar\",\"paperid\":null,\"PeriodicalName\":\"Nippon Kagaku Kaishi\",\"FirstCategoryId\":\"1085\",\"ListUrlMain\":\"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2001.559\",\"RegionNum\":0,\"RegionCategory\":null,\"ArticlePicture\":[],\"TitleCN\":null,\"AbstractTextCN\":null,\"PMCID\":null,\"EPubDate\":\"\",\"PubModel\":\"\",\"JCR\":\"\",\"JCRName\":\"\",\"Score\":null,\"Total\":0}","platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Nippon Kagaku Kaishi","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2001.559","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}

引用次数: 0

摘要

通过氯(N,N-二乙基氨基)硅烷和双(N,N-二乙基氨基)硅烷的氨酰作用合成聚硅烷HPZ1和HPZ2。HPZ1及HPZ2对自缩合的稳定性较低，分子量约1000，是以[H2Si(NH)]n为主骨架的聚合物。HPZ1及HPZ2通过稀释溶液或用氯(三甲基)硅烷制成硅烷化体，抑制了自缩合，可作为四氢呋喃、乙醚等溶液处理。另一方面，如果在20°C下放置聚希拉山的35wt % (HPZ1)和45wt % (HPZ2)THF溶液，发现最高平均重量分子量为85000 (HPZ1)和45000 (HPZ2)的聚硅烷生成。

本文章由计算机程序翻译，如有差异，请以英文原文为准。

查看原文

微信好友朋友圈 QQ好友复制链接

本刊更多论文

N,N-ジエチルアミノシラン類のアンモノリシスによる高分子量ポリシラザンの合成

クロロ(N,N-ジエチルアミノ)シランおよびビス(N,N-ジエチルアミノ)シランのアンモノリシスによりポリシラザンHPZ1およびHPZ2を合成した．HPZ1およびHPZ2は自己縮合に対する安定性が低く，分子量約1000，[H2Si(NH)]nを主骨格とするポリシラザンであった．HPZ1およびHPZ2は，希薄溶液あるいはクロロ(トリメチル)シランによりシリル化体とすることにより自己縮合が抑制され，テトラヒドロフランやエーテルなどの溶液として扱えた．一方，ポリシラザンの35 wt% (HPZ1)および45 wt% (HPZ2)THF溶液を20 °Cで放置すると，最高で重量平均分子量85000 (HPZ1)および45000 (HPZ2)のポリシラザンが生成することがわかった．

求助全文

通过发布文献求助，成功后即可免费获取论文全文。去求助

来源期刊

Nippon Kagaku Kaishi

自引率

0.00%

发文量