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三星/MIT/成均馆大学合作，Nature！

研之成理 2024-12-23 12:43
文章摘要
本文由三星、MIT和成均馆大学合作，提出了一种在低温下在非晶和多晶表面上生长单晶通道材料的方法，这些材料由过渡金属二硫化物（TMD）组成，从而保护了底层电子组件。研究展示了垂直单晶逻辑晶体管阵列的无缝单体式集成，导致了前所未有的垂直互补金属氧化物半导体（CMOS）阵列的发展。这一成果为各种电子硬件以单晶形式进行三维（M3D）集成提供了机会，有望大幅减少互连距离，从而减轻RC延迟，并在给定晶圆空间内使晶体管密度翻倍。
三星/MIT/成均馆大学合作，Nature！
查看文献： Growth-based monolithic 3D integration of single-crystal 2D semiconductors
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