Advanced Lithography

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Electron beam and optical patterning of polymerizable ionic liquid-based resists

Pub Date : 2023-05-01 DOI: 10.1117/12.2658445 N. Turek, Andrea Szpecht, Aleksandra Szymańska, T. Stefaniuk, K. Komorowska

Pattern fidelity improvement of DSA hole patterns

Pub Date : 2023-05-01 DOI: 10.1117/12.2658245 M. Muramatsu, T. Nishi, Kiyohito Ito, Yoshihito Takahashi, Yasunori Hatamura, T. Kitano, Tomohiro Iwaki

AppliedPRO: process recipe optimizer for R&D acceleration and beyond

Pub Date : 2023-05-01 DOI: 10.1117/12.2661320 Deepak Gupta, Sravan Nandakumar, T. Miyagi, Oliver Jan, W. Bishara, St Chiou, Kyeong-tae Lee, Andre Kim, Sangdoo Kim, Young-Soo Um, Ki-il Kim, Changbae Park, Myeonggil Shin, K. Bai

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