Extended Abstracts of International Workshop on Gate Insulator (IEEE Cat. No.03EX765)

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HfSiON gate dielectric for CMOS applications

Pub Date : 2003-12-19 DOI: 10.1109/IWGI.2003.159199 M. Takayanagi, T. Watanabe, R. Iijima, A. Kaneko, S. Inumiya, I. Hirano, K. Sekine, A. Nishiyama, K. Eguchi, Y. Tsunashima

Advanced oxynitride gate dielectrics for CMOS applications

Pub Date : 2003-12-19 DOI: 10.1109/IWGI.2003.159201 J. Yugami, S. Tsujikawa, R. Tsuchiya, S. Saito, Y. Shimamoto, K. Torii, T. Mine, T. Onai

Improvement in the uniformity and the thermal stability of Hf-silicate gate dielectric by plasma-nitridation

Pub Date : 2003-12-19 DOI: 10.1109/IWGI.2003.159180 S. Kamiyama, T. Aoyama, Y. Tsutsumi, H. Takada, A. Horiuchi, T. Maeda, K. Torii, H. Kitajima, T. Arikado

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