半导体技术

1805

微信好友朋友圈 QQ好友复制链接

查看最新文献

中国科技核心期刊 北大核心期刊

发文信息投稿信息同类期刊

英文名称：

Semiconductor Technology

CN：

13-1109/TN

影响因子：

期刊影响因子(Impact factor，IF) 即某刊平均每篇论文的被引用数，是表征期刊影响大小的一项定量指标，它实际上是某刊在某年被全部源刊物引证该刊前两年发表论文的次数，与该刊前两年所发表的全部源论文数之比。

0.576

反馈

ISSN：

ISSN是由8个数字组成的编码，旨在识别各种报纸、专业杂志、画报、期刊，无论其性质或载体版本（纸版及电子版）。

1003-353X

期刊官网：

http://www.bdtj.cbpt.cnki.net

主管：

中国电子科技集团公司

主办单位：

中国电子科技集团公司第十三研究所

发文信息

发文量：

8436

被引量：

29907

投稿信息

出版周期：

月刊

出版语言：

中文

邮政编码：

050002

Email：

bdtj1339@163.com

投稿网址：

http://bdtj.cbpt.cnki.net/EditorEN/index.aspx?t=1

编辑部地址：

河北省石家庄市

半导体技术 - 最新文献

查看全部

A robust shallow trench isolation (STI) with SiN pull-back process for advanced DRAM technology

Pub Date : 2002-08-07 DOI: 10.1109/ASMC.2002.1001567 C.H. Li, K. Tu, H. Chu, I.H. Chang, W.R. Liaw, H.F. Lee, W. Lien, M. Tsai, W. Liang, W.G. Yeh, H. Chou, C.Y. Chen, M.H. Chi

Characterization of copper voids in dual damascene processes

Pub Date : 2002-08-07 DOI: 10.1109/ASMC.2002.1001632 R. Guldi, J. Shaw, J. Ritchison, S. Oestreich, K. Davis, R. Fiordalice

Accuracy of yield impact calculation based on kill ratio

Pub Date : 2002-08-07 DOI: 10.1109/ASMC.2002.1001580 M. Ono, H. Iwata, K. Watanabe

免责声明：
本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。