中心喷射抛光，实现浆料的高效利用

摘要 抛光是最关键的表面处理工艺之一，通常需要消耗足够的浆料才能获得超精细的表面。然而，过量的浆料消耗会产生大量废水，因此环境成本很高。鉴于人们对环境问题的日益关注，提高工艺效率并将环境负担降至最低至关重要。有鉴于此，我们提出了一种新型抛光系统，即向抛光垫中心注入浆料的中心喷射抛光系统。其目的是利用旋转抛光垫的离心力，从而有效地利用浆料。浆液直接进入抛光垫和工件之间，然后在离心力的作用下在抛光垫上分散。为了证明这一概念，我们使用专门设计的抛光工具进行了简单的实验和计算分析；与传统工艺相比，中心喷射抛光的浆液分布更均匀。随后，构建了抛光系统，以评估抛光性能。在碳化硅（SiC）抛光实验的基础上，分析了不同转速和浆料供应率下的浆料效率和生产率。在相同的加工条件下，材料去除率（MRR）是传统抛光方法的两倍多；而在相同的材料去除率下，浆液消耗量减少了约 60%。扩展的普雷斯顿方程被用来预测新工艺的材料去除率。预计泥浆的有效利用将减少研磨工艺对环境的影响。