在热植入和高压退火后,高纯度钻石中的NV量子中心

С. Н. Подлесный, И. А. Карташов, Владимир Петрович Попов
{"title":"在热植入和高压退火后,高纯度钻石中的NV量子中心","authors":"С. Н. Подлесный, И. А. Карташов, Владимир Петрович Попов","doi":"10.34077/rcsp2021-73","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Квантовые устройства на спинах точечных дефектов широкозонных полупроводниках, например,\nNV центров и их ансамблях в алмазе привлекательны возможностью работы при комнатных\nтемпературах, однако время спиновой релаксации Т2\n*\nзависит от других дефектов и обычно Т2\n*<<Т2 –\nвремени когерентной релаксации на узловых атомах азота Ns. Проблемой остается их создание в\nзаданной области, единственным способом которого является имплантация, создающая массу других\nдефектов. Решить проблему “квантового качества” можно двумя способами. Во-первых,\nформированием сверхрешеток из узловых атомов азота с регулярными рельефом для их встраивания\nпри росте из газовой фазы, а затем захватом вакансий, сформированных при локальном облучении\nи нагреве сфокусированным пучком, в соседние c азотом узлы. Во-вторых, внедрением одиночных\nионов N+ имплантерами с регистрацией фотонной или электронной эмиссии от вошедшего в мишень\nиона или заряда на её поверхности, управляющих процессом переноса ионного пучка в новую точку.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"134 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":"{\"title\":\"Ансамбли NV- центров квантового качества в высокочистом алмазе после горячей\\nимплантации и высокотемпературного отжига под давлением\",\"authors\":\"С. Н. Подлесный, И. А. Карташов, Владимир Петрович Попов\",\"doi\":\"10.34077/rcsp2021-73\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"Квантовые устройства на спинах точечных дефектов широкозонных полупроводниках, например,\\nNV центров и их ансамблях в алмазе привлекательны возможностью работы при комнатных\\nтемпературах, однако время спиновой релаксации Т2\\n*\\nзависит от других дефектов и обычно Т2\\n*<<Т2 –\\nвремени когерентной релаксации на узловых атомах азота Ns. Проблемой остается их создание в\\nзаданной области, единственным способом которого является имплантация, создающая массу других\\nдефектов. Решить проблему “квантового качества” можно двумя способами. Во-первых,\\nформированием сверхрешеток из узловых атомов азота с регулярными рельефом для их встраивания\\nпри росте из газовой фазы, а затем захватом вакансий, сформированных при локальном облучении\\nи нагреве сфокусированным пучком, в соседние c азотом узлы. Во-вторых, внедрением одиночных\\nионов N+ имплантерами с регистрацией фотонной или электронной эмиссии от вошедшего в мишень\\nиона или заряда на её поверхности, управляющих процессом переноса ионного пучка в новую точку.\",\"PeriodicalId\":356596,\"journal\":{\"name\":\"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ\",\"volume\":\"134 1\",\"pages\":\"0\"},\"PeriodicalIF\":0.0000,\"publicationDate\":\"2021-09-27\",\"publicationTypes\":\"Journal Article\",\"fieldsOfStudy\":null,\"isOpenAccess\":false,\"openAccessPdf\":\"\",\"citationCount\":\"0\",\"resultStr\":null,\"platform\":\"Semanticscholar\",\"paperid\":null,\"PeriodicalName\":\"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ\",\"FirstCategoryId\":\"1085\",\"ListUrlMain\":\"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-73\",\"RegionNum\":0,\"RegionCategory\":null,\"ArticlePicture\":[],\"TitleCN\":null,\"AbstractTextCN\":null,\"PMCID\":null,\"EPubDate\":\"\",\"PubModel\":\"\",\"JCR\":\"\",\"JCRName\":\"\",\"Score\":null,\"Total\":0}","platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-73","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0

摘要

例如,NV中心及其钻石基准的量子装置具有室温作用的吸引力,但是t2的自旋放松时间取决于其他的缺陷,通常t2的时间取决于氮Ns节点上的相干放松时间。问题仍然是它们在周围的区域的创建,唯一的方法是植入物,制造更多的其他缺陷。有两种方法可以解决量子质量问题。首先,将氮原子的超晶格形成成正则图,以适应气体阶段的生长,然后将局部热辐射产生的空位捕获到邻近的氮气节点中。第二,引入单个N+植入物,记录光子或电子发射目标或表面电荷,引导离子束转移到一个新的位置。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
查看原文
分享 分享
微信好友 朋友圈 QQ好友 复制链接
本刊更多论文
Ансамбли NV- центров квантового качества в высокочистом алмазе после горячей имплантации и высокотемпературного отжига под давлением
Квантовые устройства на спинах точечных дефектов широкозонных полупроводниках, например, NV центров и их ансамблях в алмазе привлекательны возможностью работы при комнатных температурах, однако время спиновой релаксации Т2 * зависит от других дефектов и обычно Т2 *<<Т2 – времени когерентной релаксации на узловых атомах азота Ns. Проблемой остается их создание в заданной области, единственным способом которого является имплантация, создающая массу других дефектов. Решить проблему “квантового качества” можно двумя способами. Во-первых, формированием сверхрешеток из узловых атомов азота с регулярными рельефом для их встраивания при росте из газовой фазы, а затем захватом вакансий, сформированных при локальном облучении и нагреве сфокусированным пучком, в соседние c азотом узлы. Во-вторых, внедрением одиночных ионов N+ имплантерами с регистрацией фотонной или электронной эмиссии от вошедшего в мишень иона или заряда на её поверхности, управляющих процессом переноса ионного пучка в новую точку.
求助全文
通过发布文献求助,成功后即可免费获取论文全文。 去求助
来源期刊
自引率
0.00%
发文量
0
期刊最新文献
МЛЭ рост сложных фотоприёмных, лазерных и nBn структур на основе твердых растворов CdHgTe Квантовые сенсоры физических полей на ансамблях NV центров в алмазных наноструктурах Фотоприемные устройства на основе InGaAs О возможности регулирования фотоэлектрического отклика полупроводников специальным пространственным профилированием потока излучения Искусственные подложки GaAs/Si(001), выращенные методом молекулярно-лучевой эпитаксии, для оптоэлектронных приложений
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
现在去查看 取消
×
提示
确定
0
微信
客服QQ
Book学术公众号 扫码关注我们
反馈
×
意见反馈
请填写您的意见或建议
请填写您的手机或邮箱
已复制链接
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
×
扫码分享
扫码分享
Book学术官方微信
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:481959085
Book学术
文献互助 智能选刊 最新文献 互助须知 联系我们:info@booksci.cn
Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。
Copyright © 2023 Book学术 All rights reserved.
ghs 京公网安备 11010802042870号 京ICP备2023020795号-1