Tetsuhide Shimizu, M. Villamayor, J. Kéraudy, D. Lundin, U. Helmersson
{"title":"无功大功率脉冲磁控溅射(R-HiPIMS)的过渡模式控制","authors":"Tetsuhide Shimizu, M. Villamayor, J. Kéraudy, D. Lundin, U. Helmersson","doi":"10.3131/JVSJ2.60.346","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"346 平成28年11月30日 第57回真空に関する連合講演会で発表 1 首都大学東京大学院システムデザイン研究科知能機械システム 学域(〒1910065 東京都日野市旭が丘 66) 2 リンシェーピン大学 計測・物理学研究科(SE 58183 リン シェーピン,スウェーデン) 3 パリ第11大学 ガス・プラズマ物理研究所(91405 オル セー,フランス) Fig. 1 Cathode voltage and current waveforms measured during HiPIMS of TiAl alloy in Ar/N2 gas mixtures at a constant mean power of 8 kW, a frequency of 1 kHz, a pulse length of 50 ms, and a working pressure of 0.5 Pa.","PeriodicalId":17344,"journal":{"name":"Journal of The Vacuum Society of Japan","volume":null,"pages":null},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2017-01-01","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"1","resultStr":"{\"title\":\"Transition Mode Control in Reactive High-Power Impulse Magnetron Sputtering (R-HiPIMS)\",\"authors\":\"Tetsuhide Shimizu, M. Villamayor, J. Kéraudy, D. Lundin, U. Helmersson\",\"doi\":\"10.3131/JVSJ2.60.346\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"346 平成28年11月30日 第57回真空に関する連合講演会で発表 1 首都大学東京大学院システムデザイン研究科知能機械システム 学域(〒1910065 東京都日野市旭が丘 66) 2 リンシェーピン大学 計測・物理学研究科(SE 58183 リン シェーピン,スウェーデン) 3 パリ第11大学 ガス・プラズマ物理研究所(91405 オル セー,フランス) Fig. 1 Cathode voltage and current waveforms measured during HiPIMS of TiAl alloy in Ar/N2 gas mixtures at a constant mean power of 8 kW, a frequency of 1 kHz, a pulse length of 50 ms, and a working pressure of 0.5 Pa.\",\"PeriodicalId\":17344,\"journal\":{\"name\":\"Journal of The Vacuum Society of Japan\",\"volume\":null,\"pages\":null},\"PeriodicalIF\":0.0000,\"publicationDate\":\"2017-01-01\",\"publicationTypes\":\"Journal Article\",\"fieldsOfStudy\":null,\"isOpenAccess\":false,\"openAccessPdf\":\"\",\"citationCount\":\"1\",\"resultStr\":null,\"platform\":\"Semanticscholar\",\"paperid\":null,\"PeriodicalName\":\"Journal of The Vacuum Society of Japan\",\"FirstCategoryId\":\"1085\",\"ListUrlMain\":\"https://doi.org/10.3131/JVSJ2.60.346\",\"RegionNum\":0,\"RegionCategory\":null,\"ArticlePicture\":[],\"TitleCN\":null,\"AbstractTextCN\":null,\"PMCID\":null,\"EPubDate\":\"\",\"PubModel\":\"\",\"JCR\":\"\",\"JCRName\":\"\",\"Score\":null,\"Total\":0}","platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Journal of The Vacuum Society of Japan","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.3131/JVSJ2.60.346","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 1
摘要
346平成28年11月30日第57届真空相关的联合演讲会上发表1首都东京大学研究生院学科智能机械系统设计系统研究区域(〒19165东京都日野市旭が丘66)2リンシェーピン大学测量、物理学研究科(se 58183林シェーピン,瑞典)3巴黎第11大学气体、等离子物理研究所(91405奥尔セー,法国)fig . 1Cathode voltage and current waveforms measured during HiPIMS of TiAl alloy in Ar/N2 gas mixtures atconstant mean power of 8kw, afrequency of 1khz, apulse length of 50ms，and a工作pressure of 0.5 Pa。
Transition Mode Control in Reactive High-Power Impulse Magnetron Sputtering (R-HiPIMS)
346 平成28年11月30日 第57回真空に関する連合講演会で発表 1 首都大学東京大学院システムデザイン研究科知能機械システム 学域(〒1910065 東京都日野市旭が丘 66) 2 リンシェーピン大学 計測・物理学研究科(SE 58183 リン シェーピン,スウェーデン) 3 パリ第11大学 ガス・プラズマ物理研究所(91405 オル セー,フランス) Fig. 1 Cathode voltage and current waveforms measured during HiPIMS of TiAl alloy in Ar/N2 gas mixtures at a constant mean power of 8 kW, a frequency of 1 kHz, a pulse length of 50 ms, and a working pressure of 0.5 Pa.
京公网安备 11010802042870号
京ICP备2023020795号-1
分享
求助内容：
应助结果提醒方式：
扫码关注我们
