Бессеточная система генерации низкоэнергитического ионного пучка на основе тлеющего разряда с полым катодом и внешней инжекцией электронов

Abstract

Разработана система генерации ионного пучка на основе тлеющего разряда с полым катодом и внешней инжекцией электронов. Система предназначена для ионно- пучкового осаждения покрытий на основе алюминия, в том числе его оксида. Особенностью системы является отсутствие конструктивного элемента, определяющего границу плазмы. Граница плазмы ограничена образованием двойного электростатического слоя между плазмой основного и вспомогательного разрядов. В качестве генератора вспомогательной плазмы использовался ПИНК. Двойной электростатический слой локализовался вблизи эмиссионного окна, через которое осуществлялась встречная эмиссия электронов и ионов. Показано, что диапазон рабочих давлений системы составляет от 0.1 до 1 Па, ток основного разряда составляет единицы ампер. Также показана возможность управления разностью потенциалов на двойном электростатическом слое за счет изменения напряжения горения основного тлеющего разряда с полым катодом и внешней инжекции электронов.