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CHINESE JOURNAL OF LASERS-ZHONGGUO JIGUANG最新文献

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基于表面曲线光栅的高功率窄线宽半导体激光器 基于表面曲线光栅的高功率窄线宽半导体激光器
4区 物理与天体物理 Q3 OPTICS Pub Date : 2023-01-01 DOI: 10.3788/cjl221148
唐慧 Tang Hui, 李瑞冬 Li Ruidong, 邹永刚 Zou Yonggang, 田锟 Tian Kun, 郭誉钧 Guo Yujun, 范杰 Fan Jie
随着智能感知技术的快速发展,高功率、窄线宽的半导体激光光源成为研究热点。通过在边发射半导体激光器件表面引入高阶曲线光栅,设计了一种独特的非稳谐振腔结构,可实现高功率和窄线宽。采用紫外光刻和电感耦合等离子体(ICP)刻蚀技术,制备了周期为6.09 μm、占空比为0.66、刻蚀深度为500 nm的曲线光栅。在室温条件下,测得腔长为2 mm的器件的阈值电流为220 mA,连续输出功率为1.48 W,斜率效率为0.63 W/A。比较了法布里‐珀罗激光器、直线光栅分布式反馈(DFB)激光器和曲线光栅DFB激光器的光谱,结果表明,曲线光栅对半导体激光器的模式选择起到了关键作用,有利于实现高功率DFB激光器的窄线宽单模输出。该器件具有制作工艺相对简单、性能优异、可靠性高等特点,具有广阔的应用前景。
随着智能感知技术的快速发展,高功率、窄线宽的半导体激光光源成为研究热点。通过在边发射半导体激光器件表面引入高阶曲线光栅,设计了一种独特的非稳谐振腔结构,可实现高功率和窄线宽。采用紫外光刻和电感耦合等离子体(ICP)刻蚀技术,制备了周期为6.09 μm、占空比为0.66、刻蚀深度为500 nm的曲线光栅。在室温条件下,测得腔长为2 mm的器件的阈值电流为220 mA,连续输出功率为1.48 W,斜率效率为0.63 W/A。比较了法布里‐珀罗激光器、直线光栅分布式反馈(DFB)激光器和曲线光栅DFB激光器的光谱,结果表明,曲线光栅对半导体激光器的模式选择起到了关键作用,有利于实现高功率DFB激光器的窄线宽单模输出。该器件具有制作工艺相对简单、性能优异、可靠性高等特点,具有广阔的应用前景。
{"title":"基于表面曲线光栅的高功率窄线宽半导体激光器","authors":"唐慧 Tang Hui, 李瑞冬 Li Ruidong, 邹永刚 Zou Yonggang, 田锟 Tian Kun, 郭誉钧 Guo Yujun, 范杰 Fan Jie","doi":"10.3788/cjl221148","DOIUrl":"https://doi.org/10.3788/cjl221148","url":null,"abstract":"随着智能感知技术的快速发展,高功率、窄线宽的半导体激光光源成为研究热点。通过在边发射半导体激光器件表面引入高阶曲线光栅,设计了一种独特的非稳谐振腔结构,可实现高功率和窄线宽。采用紫外光刻和电感耦合等离子体(ICP)刻蚀技术,制备了周期为6.09 μm、占空比为0.66、刻蚀深度为500 nm的曲线光栅。在室温条件下,测得腔长为2 mm的器件的阈值电流为220 mA,连续输出功率为1.48 W,斜率效率为0.63 W/A。比较了法布里‐珀罗激光器、直线光栅分布式反馈(DFB)激光器和曲线光栅DFB激光器的光谱,结果表明,曲线光栅对半导体激光器的模式选择起到了关键作用,有利于实现高功率DFB激光器的窄线宽单模输出。该器件具有制作工艺相对简单、性能优异、可靠性高等特点,具有广阔的应用前景。","PeriodicalId":47922,"journal":{"name":"CHINESE JOURNAL OF LASERS-ZHONGGUO JIGUANG","volume":"139 11 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2023-01-01","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"135662371","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":4,"RegionCategory":"物理与天体物理","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
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纳秒激光烧蚀GCr15钢形貌演变规律研究 纳秒激光烧蚀GCr15钢形貌演变规律研究
4区 物理与天体物理 Q3 OPTICS Pub Date : 2023-01-01 DOI: 10.3788/cjl230590
樊玉杰 Fan Yujie, 李彬 Li Bin, 卢俊杰 Lu Junjie, 夏晶 Xia Jing, 刘芳华 Liu Fanghua, 邱小虎 Qiu Xiaohu
基于纳秒激光烧蚀试验,采用三维共聚焦显微镜对GCr15钢表面点织构形貌进行了定量表征和分析,探讨了激光能量密度对纳秒激光烧蚀GCr15钢表面点织构形状、几何尺寸和结构稳定性的影响规律。结果表明:随着激光能量密度的增加,GCr15钢表面点织构形貌结构先由凹坑变为凸起,再由凸起变为凹坑,最后变为不规则结构;点织构几何尺寸误差随激光能量密度的变化,在不同阶段呈现不同的规律;点织构形貌结构稳定性随着激光能量密度的增加,呈先减小再增大的变化趋势,当激光能量密度由54.585 W·mm-2增加至363.977 W·mm-2时,形貌平均误差先由3.16%降至2.08%,再增加至8.16%。研究结果为激光烧蚀GCr15钢表面点织构形貌的控制提供了参考。
基于纳秒激光烧蚀试验,采用三维共聚焦显微镜对GCr15钢表面点织构形貌进行了定量表征和分析,探讨了激光能量密度对纳秒激光烧蚀GCr15钢表面点织构形状、几何尺寸和结构稳定性的影响规律。结果表明:随着激光能量密度的增加,GCr15钢表面点织构形貌结构先由凹坑变为凸起,再由凸起变为凹坑,最后变为不规则结构;点织构几何尺寸误差随激光能量密度的变化,在不同阶段呈现不同的规律;点织构形貌结构稳定性随着激光能量密度的增加,呈先减小再增大的变化趋势,当激光能量密度由54.585 W·mm-2增加至363.977 W·mm-2时,形貌平均误差先由3.16%降至2.08%,再增加至8.16%。研究结果为激光烧蚀GCr15钢表面点织构形貌的控制提供了参考。
{"title":"纳秒激光烧蚀GCr15钢形貌演变规律研究","authors":"樊玉杰 Fan Yujie, 李彬 Li Bin, 卢俊杰 Lu Junjie, 夏晶 Xia Jing, 刘芳华 Liu Fanghua, 邱小虎 Qiu Xiaohu","doi":"10.3788/cjl230590","DOIUrl":"https://doi.org/10.3788/cjl230590","url":null,"abstract":"基于纳秒激光烧蚀试验,采用三维共聚焦显微镜对GCr15钢表面点织构形貌进行了定量表征和分析,探讨了激光能量密度对纳秒激光烧蚀GCr15钢表面点织构形状、几何尺寸和结构稳定性的影响规律。结果表明:随着激光能量密度的增加,GCr15钢表面点织构形貌结构先由凹坑变为凸起,再由凸起变为凹坑,最后变为不规则结构;点织构几何尺寸误差随激光能量密度的变化,在不同阶段呈现不同的规律;点织构形貌结构稳定性随着激光能量密度的增加,呈先减小再增大的变化趋势,当激光能量密度由54.585 W·mm-2增加至363.977 W·mm-2时,形貌平均误差先由3.16%降至2.08%,再增加至8.16%。研究结果为激光烧蚀GCr15钢表面点织构形貌的控制提供了参考。","PeriodicalId":47922,"journal":{"name":"CHINESE JOURNAL OF LASERS-ZHONGGUO JIGUANG","volume":"17 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2023-01-01","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"135662376","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":4,"RegionCategory":"物理与天体物理","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
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层状高温超导体中约瑟夫森等离子体模式太赫兹二维相干光谱的理论研究 层状高温超导体中约瑟夫森等离子体模式太赫兹二维相干光谱的理论研究
4区 物理与天体物理 Q3 OPTICS Pub Date : 2023-01-01 DOI: 10.3788/cjl230796
李子龙 Li Zilong, 万源 Wan Yuan
研究了层状高温超导体中约瑟夫森等离子体模式对电场的非线性响应及对应的太赫兹二维相干光谱。从半经典有效模型出发,推导出了约瑟夫森相位的运动方程。通过求解这一运动方程,发现太赫兹二维相干光谱中存在“泵浦-探测”信号、回波信号、失相信号和双量子相干信号。进一步将这些信号与刘维尔路径联系起来,说明体系的具体激发过程,并借此说明这些信号的潜在应用。
研究了层状高温超导体中约瑟夫森等离子体模式对电场的非线性响应及对应的太赫兹二维相干光谱。从半经典有效模型出发,推导出了约瑟夫森相位的运动方程。通过求解这一运动方程,发现太赫兹二维相干光谱中存在“泵浦-探测”信号、回波信号、失相信号和双量子相干信号。进一步将这些信号与刘维尔路径联系起来,说明体系的具体激发过程,并借此说明这些信号的潜在应用。
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正交相位编码的同轴全息加密存储系统的研究 正交相位编码的同轴全息加密存储系统的研究
4区 物理与天体物理 Q3 OPTICS Pub Date : 2023-01-01 DOI: 10.3788/cjl230696
宋海洋 Song Haiyang, 李枷楠 Li Jianan, 范琳琳 Fan Linlin, 林达奎 Lin Dakui, 王琨 Wang Kun, 林枭 Lin Xiao, 谭小地 Tan Xiaodi
通过调制具有不同编码单元的参考光,对信息光进行分页式加密存储。提出两种参考光编码加密模式,即扇形参考光编码模式和随机位置参考光编码模式,并对这两种方法进行验证。实验结果表明,这两种方式都通过正交相位编码完成加密解密的过程。对两种方法的加密性进行评估,不同密钥对应的加密信息之间的相似度均值分别为0.57和0.02,均方误差的平均值分别为537和1872。随机位置参考光编码模式下的同轴系统安全性更高。正交相位加密技术可以有效地防止存储数据被非法访问和窃取,保证了数据的安全性。
通过调制具有不同编码单元的参考光,对信息光进行分页式加密存储。提出两种参考光编码加密模式,即扇形参考光编码模式和随机位置参考光编码模式,并对这两种方法进行验证。实验结果表明,这两种方式都通过正交相位编码完成加密解密的过程。对两种方法的加密性进行评估,不同密钥对应的加密信息之间的相似度均值分别为0.57和0.02,均方误差的平均值分别为537和1872。随机位置参考光编码模式下的同轴系统安全性更高。正交相位加密技术可以有效地防止存储数据被非法访问和窃取,保证了数据的安全性。
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双光子亚衍射多焦点结构光照明显微研究 双光子亚衍射多焦点结构光照明显微研究
4区 物理与天体物理 Q3 OPTICS Pub Date : 2023-01-01 DOI: 10.3788/cjl230480
权小娟 Quan Xiaojuan, 张晨爽 Zhang Chenshuang, 林丹樱 Lin Danying, 于斌 Yu Bin, 屈军乐 Qu Junle
为进一步提高双光子多焦点结构光照明显微技术(2P-MSIM)的空间分辨率,笔者提出并发展了一种双光子亚衍射多焦点结构光照明显微成像方法(2P-sMSIM)。首先,通过改进的Gerchberg-Saxton(GS)相位恢复算法设计亚衍射聚焦点阵,生成相位图,利用高速相位型空间光调制器产生亚衍射聚焦点阵。通过计算机模拟的仿真实验,探究算法的可行性,并通过对荧光染料溶液的激发成像,证明了每个亚衍射聚焦点阵的平均尺寸为正常衍射受限点阵聚焦点尺寸的80%。其次,将该点阵引入2P-MSIM系统,对固定在BS-C-1细胞内的微管和商用线粒体切片分别进行了超分辨成像实验,证明了在亚衍射聚焦点阵激发下,2P-MSIM的分辨率和成像质量得到了进一步提高,这对于2P-MSIM的发展具有重要意义。
为进一步提高双光子多焦点结构光照明显微技术(2P-MSIM)的空间分辨率,笔者提出并发展了一种双光子亚衍射多焦点结构光照明显微成像方法(2P-sMSIM)。首先,通过改进的Gerchberg-Saxton(GS)相位恢复算法设计亚衍射聚焦点阵,生成相位图,利用高速相位型空间光调制器产生亚衍射聚焦点阵。通过计算机模拟的仿真实验,探究算法的可行性,并通过对荧光染料溶液的激发成像,证明了每个亚衍射聚焦点阵的平均尺寸为正常衍射受限点阵聚焦点尺寸的80%。其次,将该点阵引入2P-MSIM系统,对固定在BS-C-1细胞内的微管和商用线粒体切片分别进行了超分辨成像实验,证明了在亚衍射聚焦点阵激发下,2P-MSIM的分辨率和成像质量得到了进一步提高,这对于2P-MSIM的发展具有重要意义。
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基于混合算法的高均匀度超快激光分束及精密加工研究 基于混合算法的高均匀度超快激光分束及精密加工研究
4区 物理与天体物理 Q3 OPTICS Pub Date : 2023-01-01 DOI: 10.3788/cjl221543
杨磊 Yang Lei, 徐新宇 Xu Xinyu, 王建磊 Wang Jianlei, 叶云霞 Ye Yunxia, 任旭东 Ren Xudong, 陈卫标 Chen Weibiao
基于空间光调制器外光路分束进行并行加工是提高超快激光加工效率的有效方法。高均匀度分束算法是实现外光路分束的关键。在实际光路中,由于光路不完全满足理论条件,经典的GS算法生成的多光束均匀度远低于理论值,不满足阵列化激光加工的要求。基于GS?GA算法的思想与图像处理技术,在程序设计中引入了实时反馈的功能,以达到提高分束均匀度的目的。并采用加载菲涅耳透镜相位的方式分离零级光,避免重建光场离轴带来的畸变。最终实现了均匀度接近94%的分束,并通过加工实验验证了高均匀度分束算法在精密加工中的应用效果。
基于空间光调制器外光路分束进行并行加工是提高超快激光加工效率的有效方法。高均匀度分束算法是实现外光路分束的关键。在实际光路中,由于光路不完全满足理论条件,经典的GS算法生成的多光束均匀度远低于理论值,不满足阵列化激光加工的要求。基于GS?GA算法的思想与图像处理技术,在程序设计中引入了实时反馈的功能,以达到提高分束均匀度的目的。并采用加载菲涅耳透镜相位的方式分离零级光,避免重建光场离轴带来的畸变。最终实现了均匀度接近94%的分束,并通过加工实验验证了高均匀度分束算法在精密加工中的应用效果。
{"title":"基于混合算法的高均匀度超快激光分束及精密加工研究","authors":"杨磊 Yang Lei, 徐新宇 Xu Xinyu, 王建磊 Wang Jianlei, 叶云霞 Ye Yunxia, 任旭东 Ren Xudong, 陈卫标 Chen Weibiao","doi":"10.3788/cjl221543","DOIUrl":"https://doi.org/10.3788/cjl221543","url":null,"abstract":"基于空间光调制器外光路分束进行并行加工是提高超快激光加工效率的有效方法。高均匀度分束算法是实现外光路分束的关键。在实际光路中,由于光路不完全满足理论条件,经典的GS算法生成的多光束均匀度远低于理论值,不满足阵列化激光加工的要求。基于GS?GA算法的思想与图像处理技术,在程序设计中引入了实时反馈的功能,以达到提高分束均匀度的目的。并采用加载菲涅耳透镜相位的方式分离零级光,避免重建光场离轴带来的畸变。最终实现了均匀度接近94%的分束,并通过加工实验验证了高均匀度分束算法在精密加工中的应用效果。","PeriodicalId":47922,"journal":{"name":"CHINESE JOURNAL OF LASERS-ZHONGGUO JIGUANG","volume":"29 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2023-01-01","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"135105925","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":4,"RegionCategory":"物理与天体物理","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
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基于双向光斑重叠率调控的耦合激光抛光碳化硅陶瓷的表面质量研究 基于双向光斑重叠率调控的耦合激光抛光碳化硅陶瓷的表面质量研究
4区 物理与天体物理 Q3 OPTICS Pub Date : 2023-01-01 DOI: 10.3788/cjl221213
马桂英 Ma Guiying, 陈晓晓 Chen Xiaoxiao, 陈涛 Chen Tao, 张文武 Zhang Wenwu
采用多光束耦合纳秒激光对SiC陶瓷进行抛光试验研究,研究了耦合激光的双向光斑重叠率(δ)和能量密度(ED)对抛光表面质量的影响。使用激光共聚焦显微镜、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪以及拉曼光谱仪等仪器观测表征了SiC陶瓷抛光前后的表面形貌、表面粗糙度、元素分布以及物相变化等。结果表明:随着δ和ED的增加,激光抛光表面出现重铸层,重铸层的拉曼光谱曲线含有Si的特征峰;当耦合激光的δ为75%、ED为4.254 J/cm2、扫描次数为2时,抛光表面粗糙度(Ra)降至0.73 μm;当δ和ED过大时,抛光表面易在孔隙附近出现微裂纹,并向周围延伸。
采用多光束耦合纳秒激光对SiC陶瓷进行抛光试验研究,研究了耦合激光的双向光斑重叠率(δ)和能量密度(ED)对抛光表面质量的影响。使用激光共聚焦显微镜、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪以及拉曼光谱仪等仪器观测表征了SiC陶瓷抛光前后的表面形貌、表面粗糙度、元素分布以及物相变化等。结果表明:随着δ和ED的增加,激光抛光表面出现重铸层,重铸层的拉曼光谱曲线含有Si的特征峰;当耦合激光的δ为75%、ED为4.254 J/cm2、扫描次数为2时,抛光表面粗糙度(Ra)降至0.73 μm;当δ和ED过大时,抛光表面易在孔隙附近出现微裂纹,并向周围延伸。
{"title":"基于双向光斑重叠率调控的耦合激光抛光碳化硅陶瓷的表面质量研究","authors":"马桂英 Ma Guiying, 陈晓晓 Chen Xiaoxiao, 陈涛 Chen Tao, 张文武 Zhang Wenwu","doi":"10.3788/cjl221213","DOIUrl":"https://doi.org/10.3788/cjl221213","url":null,"abstract":"采用多光束耦合纳秒激光对SiC陶瓷进行抛光试验研究,研究了耦合激光的双向光斑重叠率(δ)和能量密度(ED)对抛光表面质量的影响。使用激光共聚焦显微镜、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪以及拉曼光谱仪等仪器观测表征了SiC陶瓷抛光前后的表面形貌、表面粗糙度、元素分布以及物相变化等。结果表明:随着δ和ED的增加,激光抛光表面出现重铸层,重铸层的拉曼光谱曲线含有Si的特征峰;当耦合激光的δ为75%、ED为4.254 J/cm2、扫描次数为2时,抛光表面粗糙度(Ra)降至0.73 μm;当δ和ED过大时,抛光表面易在孔隙附近出现微裂纹,并向周围延伸。","PeriodicalId":47922,"journal":{"name":"CHINESE JOURNAL OF LASERS-ZHONGGUO JIGUANG","volume":"123 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2023-01-01","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"135105959","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":4,"RegionCategory":"物理与天体物理","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
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基于主动偏振控制技术实现高功率线偏振飞秒光纤激光 基于主动偏振控制技术实现高功率线偏振飞秒光纤激光
4区 物理与天体物理 Q3 OPTICS Pub Date : 2023-01-01 DOI: 10.3788/cjl230939
王涛 Wang Tao, 任帅 Ren Shuai, 常洪祥 Chang Hongxiang, 任博 Ren Bo, 郭琨 Guo Kun, 李灿 Li Can, 马鹏飞 Ma Pengfei, 冷进勇 Leng Jinyong, 周朴 Zhou Pu
{"title":"基于主动偏振控制技术实现高功率线偏振飞秒光纤激光","authors":"王涛 Wang Tao, 任帅 Ren Shuai, 常洪祥 Chang Hongxiang, 任博 Ren Bo, 郭琨 Guo Kun, 李灿 Li Can, 马鹏飞 Ma Pengfei, 冷进勇 Leng Jinyong, 周朴 Zhou Pu","doi":"10.3788/cjl230939","DOIUrl":"https://doi.org/10.3788/cjl230939","url":null,"abstract":"","PeriodicalId":47922,"journal":{"name":"CHINESE JOURNAL OF LASERS-ZHONGGUO JIGUANG","volume":"33 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2023-01-01","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"135659400","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":4,"RegionCategory":"物理与天体物理","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
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5G通信LWDM窄带滤光膜的研制 5G通信LWDM窄带滤光膜的研制
4区 物理与天体物理 Q3 OPTICS Pub Date : 2023-01-01 DOI: 10.3788/cjl221491
张静 Zhang Jing, 刘海成 Liu Haicheng, 付秀华 Fu Xiuhua, 王升耆 Wang Shengqi, 王一博 Wang Yibo, 刘俊岐 Liu Junqi, 张天翔 Zhang Tianxiang, 杨飞 Yang Fei, 李刚 Li Gang
为了满足5G光通信对细波分复用(LWDM)窄带滤光膜的要求,笔者采用电子束与离子辅助沉积技术,在K9基底上镀制了高质量光通信滤光膜。提出了一种高精度调试膜厚均匀性与光谱一致性的方法,该方法通过对特殊膜系镀膜结果进行反演分析,能快速分析出Ta2O5和SiO2两种材料光学厚度的误差,根据分析结果调节修正板,可以有效解决光学厚度匹配的问题,改善窄带滤光膜光谱。在镀制过程中采用光学直接监控法监控膜厚,对基板的实时光量值曲线进行拟合,根据拟合结果监控膜层厚度,同时采用晶控平均厚度法对耦合层与非规整膜层进行监控,提高了监控精度。最终制备的滤光膜在-0.2 dB处的带宽为4.1 nm,通带内最大插入损耗为0.14 dB,通带波纹为0.04 dB,-27 dB处带宽为6.0 nm,满足细波分复用窄带滤光膜的技术要求。
为了满足5G光通信对细波分复用(LWDM)窄带滤光膜的要求,笔者采用电子束与离子辅助沉积技术,在K9基底上镀制了高质量光通信滤光膜。提出了一种高精度调试膜厚均匀性与光谱一致性的方法,该方法通过对特殊膜系镀膜结果进行反演分析,能快速分析出Ta2O5和SiO2两种材料光学厚度的误差,根据分析结果调节修正板,可以有效解决光学厚度匹配的问题,改善窄带滤光膜光谱。在镀制过程中采用光学直接监控法监控膜厚,对基板的实时光量值曲线进行拟合,根据拟合结果监控膜层厚度,同时采用晶控平均厚度法对耦合层与非规整膜层进行监控,提高了监控精度。最终制备的滤光膜在-0.2 dB处的带宽为4.1 nm,通带内最大插入损耗为0.14 dB,通带波纹为0.04 dB,-27 dB处带宽为6.0 nm,满足细波分复用窄带滤光膜的技术要求。
{"title":"5G通信LWDM窄带滤光膜的研制","authors":"张静 Zhang Jing, 刘海成 Liu Haicheng, 付秀华 Fu Xiuhua, 王升耆 Wang Shengqi, 王一博 Wang Yibo, 刘俊岐 Liu Junqi, 张天翔 Zhang Tianxiang, 杨飞 Yang Fei, 李刚 Li Gang","doi":"10.3788/cjl221491","DOIUrl":"https://doi.org/10.3788/cjl221491","url":null,"abstract":"为了满足5G光通信对细波分复用(LWDM)窄带滤光膜的要求,笔者采用电子束与离子辅助沉积技术,在K9基底上镀制了高质量光通信滤光膜。提出了一种高精度调试膜厚均匀性与光谱一致性的方法,该方法通过对特殊膜系镀膜结果进行反演分析,能快速分析出Ta2O5和SiO2两种材料光学厚度的误差,根据分析结果调节修正板,可以有效解决光学厚度匹配的问题,改善窄带滤光膜光谱。在镀制过程中采用光学直接监控法监控膜厚,对基板的实时光量值曲线进行拟合,根据拟合结果监控膜层厚度,同时采用晶控平均厚度法对耦合层与非规整膜层进行监控,提高了监控精度。最终制备的滤光膜在-0.2 dB处的带宽为4.1 nm,通带内最大插入损耗为0.14 dB,通带波纹为0.04 dB,-27 dB处带宽为6.0 nm,满足细波分复用窄带滤光膜的技术要求。","PeriodicalId":47922,"journal":{"name":"CHINESE JOURNAL OF LASERS-ZHONGGUO JIGUANG","volume":"13 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2023-01-01","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"135662137","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":4,"RegionCategory":"物理与天体物理","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
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铝质刹车盘表面激光熔覆Al-Si-Ni-WC涂层的微观组织与抗磨性能研究 铝质刹车盘表面激光熔覆Al-Si-Ni-WC涂层的微观组织与抗磨性能研究
4区 物理与天体物理 Q3 OPTICS Pub Date : 2023-01-01 DOI: 10.3788/cjl230731
赵鹏 Zhao Peng, 王守仁 Wang Shouren, 王高琦 Wang Gaoqi, 肖振 Xiao Zhen, 高绍平 Gao Shaoping, 刘晓萍 Liu Xiaoping
利用Al-Si-Ni-WC合金粉末,通过激光熔覆技术在ZL108铝合金刹车盘表面上制备出具有优异抗磨损性能的涂层。对涂层微观组织性能、硬度值、磨损体积、抗腐蚀性进行了分析。研究结果表明:利用Al-18%Si-30%Ni-5%WC复合涂层获得了平整且厚度均匀的熔覆面。涂层中的物相主要有AlNi、AlNi3、WC、SiC等硬质合金相,且原位生成的硬质合金相均匀分布在熔覆层内。基体和涂层结合紧密,熔覆涂层内部的晶粒发生细化。熔覆涂层表面的平均硬度值为272 HV,是ZL108基材表面平均硬度值的3.1倍。相比于基体,涂层具有更加优异的耐磨性能,并且在高温环境下,涂层的磨损量较小。涂层磨损机理为磨粒磨损和黏着磨损以及少量的氧化磨损,铝合金刹车盘的耐磨性得到显著增加。
利用Al-Si-Ni-WC合金粉末,通过激光熔覆技术在ZL108铝合金刹车盘表面上制备出具有优异抗磨损性能的涂层。对涂层微观组织性能、硬度值、磨损体积、抗腐蚀性进行了分析。研究结果表明:利用Al-18%Si-30%Ni-5%WC复合涂层获得了平整且厚度均匀的熔覆面。涂层中的物相主要有AlNi、AlNi3、WC、SiC等硬质合金相,且原位生成的硬质合金相均匀分布在熔覆层内。基体和涂层结合紧密,熔覆涂层内部的晶粒发生细化。熔覆涂层表面的平均硬度值为272 HV,是ZL108基材表面平均硬度值的3.1倍。相比于基体,涂层具有更加优异的耐磨性能,并且在高温环境下,涂层的磨损量较小。涂层磨损机理为磨粒磨损和黏着磨损以及少量的氧化磨损,铝合金刹车盘的耐磨性得到显著增加。
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CHINESE JOURNAL OF LASERS-ZHONGGUO JIGUANG
全部 Acc. Chem. Res. ACS Applied Bio Materials ACS Appl. Electron. Mater. ACS Appl. Energy Mater. ACS Appl. Mater. Interfaces ACS Appl. Nano Mater. ACS Appl. Polym. Mater. ACS BIOMATER-SCI ENG ACS Catal. ACS Cent. Sci. ACS Chem. Biol. ACS Chemical Health & Safety ACS Chem. Neurosci. ACS Comb. Sci. ACS Earth Space Chem. ACS Energy Lett. ACS Infect. Dis. ACS Macro Lett. ACS Mater. Lett. ACS Med. Chem. Lett. ACS Nano ACS Omega ACS Photonics ACS Sens. ACS Sustainable Chem. Eng. ACS Synth. Biol. Anal. Chem. BIOCHEMISTRY-US Bioconjugate Chem. BIOMACROMOLECULES Chem. Res. Toxicol. Chem. Rev. Chem. Mater. CRYST GROWTH DES ENERG FUEL Environ. Sci. Technol. Environ. Sci. Technol. Lett. Eur. J. Inorg. Chem. IND ENG CHEM RES Inorg. Chem. J. Agric. Food. Chem. J. Chem. Eng. Data J. Chem. Educ. J. Chem. Inf. Model. J. Chem. Theory Comput. J. Med. Chem. J. Nat. Prod. J PROTEOME RES J. Am. Chem. Soc. LANGMUIR MACROMOLECULES Mol. Pharmaceutics Nano Lett. Org. Lett. ORG PROCESS RES DEV ORGANOMETALLICS J. Org. Chem. J. Phys. Chem. J. Phys. Chem. A J. Phys. Chem. B J. Phys. Chem. C J. Phys. Chem. Lett. Analyst Anal. Methods Biomater. Sci. Catal. Sci. Technol. Chem. Commun. Chem. Soc. Rev. CHEM EDUC RES PRACT CRYSTENGCOMM Dalton Trans. Energy Environ. Sci. ENVIRON SCI-NANO ENVIRON SCI-PROC IMP ENVIRON SCI-WAT RES Faraday Discuss. Food Funct. Green Chem. Inorg. Chem. Front. Integr. Biol. J. Anal. At. Spectrom. J. Mater. Chem. A J. Mater. Chem. B J. Mater. Chem. C Lab Chip Mater. Chem. Front. Mater. Horiz. MEDCHEMCOMM Metallomics Mol. Biosyst. Mol. Syst. Des. Eng. Nanoscale Nanoscale Horiz. Nat. Prod. Rep. New J. Chem. Org. Biomol. Chem. Org. Chem. Front. PHOTOCH PHOTOBIO SCI PCCP Polym. Chem.
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