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Contributions to Plasma Physics最新文献
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The Influence of Temperature on Charging Effects in Mask During Plasma Etching
等离子体刻蚀过程中温度对掩膜充电效应的影响
IF 1.3
4区 物理与天体物理
Q3 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
Contributions to Plasma Physics
Pub Date : 2024-11-20
DOI: 10.1002/ctpp.202400118
Peng Zhang