Л. Н. Дворецкая, А. М. Можаров, Валерий Валерьевич Федоров
В данной работе будет продемонстрирован метод создания подложек для селективной эпитаксии с использованием микросферной фотолитографии, позволяющей создавать гексагональные массивы наноструктур на больших площадях. Выбирая диаметр микросферических частиц и задавая дозу экспонирования на этапе фотолитографии по микросферам, появляется возможность контролируемого варьирования диаметра и периода отверстий в маске. Подобные маски могут быть использованы при синтезе различных эпитаксиальных наноструктур, таких как нитевидные нанокристаллы, наноколонки, нанодиски и др. При этом, такой подход к подготовке ростовых подложек позволяет не только обеспечить текстурирование пластин большой площади, но и существенно сократить время экспонирования резиста.
{"title":"Использование микросферной фотолитографии для селективного синтеза\u0000полупроводниковых структур группы A3B5 на Si","authors":"Л. Н. Дворецкая, А. М. Можаров, Валерий Валерьевич Федоров","doi":"10.34077/rcsp2021-83","DOIUrl":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-83","url":null,"abstract":"В данной работе будет продемонстрирован метод создания\u0000подложек для селективной эпитаксии с использованием микросферной фотолитографии, позволяющей\u0000создавать гексагональные массивы наноструктур на больших площадях. Выбирая диаметр\u0000микросферических частиц и задавая дозу экспонирования на этапе фотолитографии по микросферам,\u0000появляется возможность контролируемого варьирования диаметра и периода отверстий в маске.\u0000Подобные маски могут быть использованы при синтезе различных эпитаксиальных наноструктур,\u0000таких как нитевидные нанокристаллы, наноколонки, нанодиски и др. При этом, такой подход к\u0000подготовке ростовых подложек позволяет не только обеспечить текстурирование пластин большой\u0000площади, но и существенно сократить время экспонирования резиста.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"121 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"115168579","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}