首页 > 最新文献

ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ最新文献

英文 中文
Использование микросферной фотолитографии для селективного синтезаполупроводниковых структур группы A3B5 на Si 微球形光谱学用于选择半导体组A3B5在Si中的合成半导体结构
Л. Н. Дворецкая, А. М. Можаров, Валерий Валерьевич Федоров
В данной работе будет продемонстрирован метод созданияподложек для селективной эпитаксии с использованием микросферной фотолитографии, позволяющейсоздавать гексагональные массивы наноструктур на больших площадях. Выбирая диаметрмикросферических частиц и задавая дозу экспонирования на этапе фотолитографии по микросферам,появляется возможность контролируемого варьирования диаметра и периода отверстий в маске.Подобные маски могут быть использованы при синтезе различных эпитаксиальных наноструктур,таких как нитевидные нанокристаллы, наноколонки, нанодиски и др. При этом, такой подход кподготовке ростовых подложек позволяет не только обеспечить текстурирование пластин большойплощади, но и существенно сократить время экспонирования резиста.
本文将展示一种使用微型球形光刻法进行选择性冲击的方法,使其能够在更大的区域产生纳米手柄的六边形数组。通过选择直径微球体颗粒并在微球体摄影阶段提供曝光剂量,就有可能对面具上的洞的直径和时间进行可控的变化。这些面具可以用来合成各种外延纳米晶体、纳米柱、纳米磁盘等形容词,这种方法不仅可以提供大量的纹理,还可以大大减少暴露时间。
{"title":"Использование микросферной фотолитографии для селективного синтеза\u0000полупроводниковых структур группы A3B5 на Si","authors":"Л. Н. Дворецкая, А. М. Можаров, Валерий Валерьевич Федоров","doi":"10.34077/rcsp2021-83","DOIUrl":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-83","url":null,"abstract":"В данной работе будет продемонстрирован метод создания\u0000подложек для селективной эпитаксии с использованием микросферной фотолитографии, позволяющей\u0000создавать гексагональные массивы наноструктур на больших площадях. Выбирая диаметр\u0000микросферических частиц и задавая дозу экспонирования на этапе фотолитографии по микросферам,\u0000появляется возможность контролируемого варьирования диаметра и периода отверстий в маске.\u0000Подобные маски могут быть использованы при синтезе различных эпитаксиальных наноструктур,\u0000таких как нитевидные нанокристаллы, наноколонки, нанодиски и др. При этом, такой подход к\u0000подготовке ростовых подложек позволяет не только обеспечить текстурирование пластин большой\u0000площади, но и существенно сократить время экспонирования резиста.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"121 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"115168579","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Новый тип оптического сенсора в структуре кремний на изоляторе 绝缘体硅结构中的新型光学传感器
Андрей Валерьевич Царев
В данной работе представлены результаты [1] численного моделирования модифицированнойконструкции оптического сенсора на основе сегментированной периодической решетки оксинитридакремния (SiON), расположенного над кремниевым волноводом (кремниевой проволоки) в структурекремний на изоляторе (КНИ). Решетка отделена от волновода тонким окисным слоем,обеспечивающего эффективную туннельную связь их оптических полей. Данная сегментированнаярешетка работает как вытекающий волновод, который фильтрует входную мощность отширокополосного оптического источника и излучает ее в виде выходящего оптического пучка,содержащего спектральные компоненты в узком диапазоне длин волн, а также обладающих небольшойугловой расходимостью. Угол излучения сильно зависит от показателя преломления окружающейсенсор среды. Это дет возможность проводить считывания данных с данного интегрально-оптическогосенсора путем измерения картины дальнего поля в фокальной плоскости объектива, которыйрасположен рядом с сенсорным элементом. Концепция работы данного типа оптического сенсора былапроверена прямым численным моделированием с помощью метода конечных разностей вовременной области (FDTD) с использованием оптического пакета от Rsoft. Датчикпродемонстрировал умеренный собственный предел обнаружения (iLOD) ≈ 0,004 RIU при потенциалеувеличения iLOD до 0,001 RIU в случае применении длинных структур порядка 10 мм.
本文介绍了(1)基于硅波导(硅线)上面的段周期周期晶格(SiON)对绝缘体结构(c)的修改光学传感器的数值模拟的结果。晶格与波导分离,这是一层薄薄的氧化物,为它们的光学场提供了有效的隧道连接。这个细胞格作为一个导流波导,过滤出宽带光学源的输入功率,并以输出的光学光束的形式发射出来,包含波长范围内的光谱成分,并具有小角度的差异。辐射的角度很大程度上取决于环境传感器的折射率。这将是一个机会,通过测量镜头的焦平面上的远场图像来读取积分光学传感器上的数据。这种光学传感器的概念是通过直接数值模型(FDTD)测试的,使用了来自Rsoft的光学包。传感器显示,如果使用10毫米长的结构,检测(iLOD)的适度特征范围(0.004 RIU)为0.001 RIU。
{"title":"Новый тип оптического сенсора в структуре кремний на изоляторе","authors":"Андрей Валерьевич Царев","doi":"10.34077/rcsp2021-63","DOIUrl":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-63","url":null,"abstract":"В данной работе представлены результаты [1] численного моделирования модифицированной\u0000конструкции оптического сенсора на основе сегментированной периодической решетки оксинитрида\u0000кремния (SiON), расположенного над кремниевым волноводом (кремниевой проволоки) в структуре\u0000кремний на изоляторе (КНИ). Решетка отделена от волновода тонким окисным слоем,\u0000обеспечивающего эффективную туннельную связь их оптических полей. Данная сегментированная\u0000решетка работает как вытекающий волновод, который фильтрует входную мощность от\u0000широкополосного оптического источника и излучает ее в виде выходящего оптического пучка,\u0000содержащего спектральные компоненты в узком диапазоне длин волн, а также обладающих небольшой\u0000угловой расходимостью. Угол излучения сильно зависит от показателя преломления окружающей\u0000сенсор среды. Это дет возможность проводить считывания данных с данного интегрально-оптического\u0000сенсора путем измерения картины дальнего поля в фокальной плоскости объектива, который\u0000расположен рядом с сенсорным элементом. Концепция работы данного типа оптического сенсора была\u0000проверена прямым численным моделированием с помощью метода конечных разностей во\u0000временной области (FDTD) с использованием оптического пакета от Rsoft. Датчик\u0000продемонстрировал умеренный собственный предел обнаружения (iLOD) ≈ 0,004 RIU при потенциале\u0000увеличения iLOD до 0,001 RIU в случае применении длинных структур порядка 10 мм.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"9 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"123710021","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Чувствительность пленок PbSnTe:In к тепловому излучению низкотемпературных(вплоть до Т=60К) источников PbSnTe胶片的敏感度:在低温辐射(t = 60k)源
Алексей Евгеньевич Климов, В. А. Голяшов, Д В Горшков
ФД ИК диапазона широко используются в системах формирования теплового изображенияисточника и «сцены». Их важнейшим параметром является не только температурное разрешение, но идопустимая средняя температура «сцены». Очевидно,что чем больше кр, тем меньшая температура «сцены»может регистрироваться. В работе представленырезультаты прямых измерений параметров макетовдетекторов с большими ф при Т = 4,2 К к излучениюАЧТ с ТАЧТ < 80 К в условиях сверхнизкого фоновогопотока. Подобные условия могут реализовываться,например, при наблюдении за удаленными объектамиСолнечной системы. При ТАЧТ = 70 К получено значениетемпературного разрешения Т < 0,0007 К,соответствующее интегральной обнаружительнойспособности по этому источнику D* > 1014 смГц0,5Вт-1.Рассмотрены механизмы фоточувствительности,оценено значение кр и возможность управления ф вPbSnTe:In-фотодетекторах на основе впервыесозданных МДП-структур с Al2O3 подзатворнымдиэлектриком. В качестве иллюстрации на рисункепоказано изменение тока канала структуры этого типапод действием освещения в условиях малых потоковфотонов Ф.
红外波段在热成像源和场景形成系统中广泛使用。它们的主要参数不仅是温度分辨率,而且是“场景”的平均温度。裁谈会越多,显然少温度能记录“舞台”。工作представленырезультат直接测量参数和大макетовдетекторf与ТАЧТt = 4.2 kизлучениюАЧТ< 80到超低фоновогопоток条件。这些条件可以实现,例如,通过观察遥远的太阳系天体。ТАЧТ= 70значениетемпературн许可时t < 0.0007,相应的积分按来源D * > 1014厘米обнаружительнойспособнГц0,55w - 1。审查机制光敏,评估值fвPbSnTe管理裁谈会和机会:In光电探测器基于впервыесоздаmdc结构与Al2O3подзатворнымдиэлектрик。图显示,在小光子流条件下,这种类型的电路结构电流的变化。
{"title":"Чувствительность пленок PbSnTe:In к тепловому излучению низкотемпературных\u0000(вплоть до Т=60К) источников","authors":"Алексей Евгеньевич Климов, В. А. Голяшов, Д В Горшков","doi":"10.34077/rcsp2021-39","DOIUrl":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-39","url":null,"abstract":"ФД ИК диапазона широко используются в системах формирования теплового изображения\u0000источника и «сцены». Их важнейшим параметром является не только температурное разрешение, но и\u0000допустимая средняя температура «сцены». Очевидно,\u0000что чем больше кр, тем меньшая температура «сцены»\u0000может регистрироваться. В работе представлены\u0000результаты прямых измерений параметров макетов\u0000детекторов с большими ф при Т = 4,2 К к излучению\u0000АЧТ с ТАЧТ < 80 К в условиях сверхнизкого фонового\u0000потока. Подобные условия могут реализовываться,\u0000например, при наблюдении за удаленными объектами\u0000Солнечной системы. При ТАЧТ = 70 К получено значение\u0000температурного разрешения Т < 0,0007 К,\u0000соответствующее интегральной обнаружительной\u0000способности по этому источнику D* > 1014 смГц0,5Вт-1\u0000.\u0000Рассмотрены механизмы фоточувствительности,\u0000оценено значение кр и возможность управления ф в\u0000PbSnTe:In-фотодетекторах на основе впервые\u0000созданных МДП-структур с Al2O3 подзатворным\u0000диэлектриком. В качестве иллюстрации на рисунке\u0000показано изменение тока канала структуры этого типа\u0000под действием освещения в условиях малых потоков\u0000фотонов Ф.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"116 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"115683394","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Восстановление p-типа проводимости HgCdTe после плазмохимического травленияпри низких температурах 在低温下等离子化学腐蚀后HgCdTe导电性p型还原
Д В Горшков, В. С. Варавин, Г. И. Сидоров
В даннойработе исследуется влияние температуры образца при плазмохимическом травлении на процессрелаксация параметров образовавшегося n-слоя и обратной конверсии к исходному p-типу КРТ.
在本报告中,样品温度对等离子化学腐蚀的影响影响了n层参数的调整和对原始p型crt的反向转换。
{"title":"Восстановление p-типа проводимости HgCdTe после плазмохимического травления\u0000при низких температурах","authors":"Д В Горшков, В. С. Варавин, Г. И. Сидоров","doi":"10.34077/rcsp2021-51","DOIUrl":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-51","url":null,"abstract":"В данной\u0000работе исследуется влияние температуры образца при плазмохимическом травлении на процесс\u0000релаксация параметров образовавшегося n-слоя и обратной конверсии к исходному p-типу КРТ.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"33 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"123356886","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Применение современной ИК термографии для изучения скорости пульсовой волны
Б. Г. Вайнер
Скорость распространения пульсовой волны (pulse wave velocity – PWV) в артериях являетсяобщепризнанным показателем жесткости сосудов, которая, в свою очередь, характеризует состояниекардиоваскулярной системы и служит предвестником развития грозных заболеваний (гипертония ипр.). Обычно, определяя PWV, усредняют порядка 10-20 измеренных значений ввиду разбросапоказаний, обусловленного, в частности, влиянием легочного дыхания. Однако, вплоть донастоящего времени не было проведено исследований, позволяющих сопоставить фазу амплитудноймодуляции PWV с фазой циркуляции воздуха в дыхательных отверстиях. С учетом того, чтовозможный фазовый сдвиг здесь способен количественно характеризовать функциональнуювзаимосвязь дыхательной и сердечно-сосудистой систем организма, получение объективнойинформации о данном параметре являетсявысоко актуальным.В проведенных исследованияхприменена оригинальная технология,впервые позволившая подойти к решениюсформулированной выше проблемы иполучить пилотные результаты.
脉搏波的传播速度(pulse wave - PWV)是血管硬度的公认指标,这反过来是心血管系统的特征,预示着可怕的疾病的发展。通常,通过定义PWV,平均10到20个测量值,因为分布,特别是肺呼吸的影响。然而,到目前为止,还没有研究表明PWV振幅调制阶段与呼吸孔的空气循环阶段相匹配。考虑到这里可能发生的相位变化可以量化人体呼吸和心血管系统之间的功能关系,获得有关这一参数的客观信息是非常重要的。这项研究采用了最初的技术,这是第一次允许人们接近上述问题的解决方案并取得试点成果。
{"title":"Применение современной ИК термографии для изучения скорости пульсовой волны","authors":"Б. Г. Вайнер","doi":"10.34077/rcsp2021-34","DOIUrl":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-34","url":null,"abstract":"Скорость распространения пульсовой волны (pulse wave velocity – PWV) в артериях является\u0000общепризнанным показателем жесткости сосудов, которая, в свою очередь, характеризует состояние\u0000кардиоваскулярной системы и служит предвестником развития грозных заболеваний (гипертония и\u0000пр.). Обычно, определяя PWV, усредняют порядка 10-20 измеренных значений ввиду разброса\u0000показаний, обусловленного, в частности, влиянием легочного дыхания. Однако, вплоть до\u0000настоящего времени не было проведено исследований, позволяющих сопоставить фазу амплитудной\u0000модуляции PWV с фазой циркуляции воздуха в дыхательных отверстиях. С учетом того, что\u0000возможный фазовый сдвиг здесь способен количественно характеризовать функциональную\u0000взаимосвязь дыхательной и сердечно-сосудистой систем организма, получение объективной\u0000информации о данном параметре является\u0000высоко актуальным.\u0000В проведенных исследованиях\u0000применена оригинальная технология,\u0000впервые позволившая подойти к решению\u0000сформулированной выше проблемы и\u0000получить пилотные результаты.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"8 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"129699492","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Резонансный фотоотклик плавного потенциального барьера
Д. М. Казанцев, В. А. Ткаченко, В. Л. Альперович
В данной работе предлагается объяснение исчезновения фотоотклика для большей энергии квантов ħ1 = 6.74 мэВ, основанное на квазиклассическихсоображениях о сохранении импульса при ФСТ.
失踪的工作提供数据解释为更多的能量量子ħфотоотклик1 = 6.74 maevius基于квазиклассическихсоображенФСТ时动量守恒。
{"title":"Резонансный фотоотклик плавного потенциального барьера","authors":"Д. М. Казанцев, В. А. Ткаченко, В. Л. Альперович","doi":"10.34077/rcsp2021-74","DOIUrl":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-74","url":null,"abstract":"В данной работе предлагается объяснение исчезновения фотоотклика для большей энергии квантов ħ1 = 6.74 мэВ, основанное на квазиклассических\u0000соображениях о сохранении импульса при ФСТ.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"324 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"124582997","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Численное моделирование сенсоров на основе линейных металлических решеток 线性金属格栅传感器数值模拟
О. Э. Камешков, Виталий Владимирович Герасимов, Борис Александрович Князев
В данной работе проводилось сравнение методом численного моделирования сенсорныхвозможностей одномерных дифракционных и субволновых решеток. Оптимизированнаядифракционная решетка представляет перспективный, недорогой и простой в изготовлении ТГцдатчик показателя преломления. Мы численно исследовали влияние периода решетки, глубинырешетки и показателя преломления на ППР-свойства решетки. Одномерные субволновыеметаллические прямоугольные решетки исследовались в схеме нарушенного полного внутреннегоотражения (конфигурация Отто), которая используется для удовлетворения условий фазовогосинхронизма. Выполнен параметрический анализ данной сенсорной системы.
在这项工作中,进行了比较,比较了一维衍射能力和次波晶格的数值模拟。优化的衍射格栅提供了一个很好的、便宜的、简单的折射率传感器。我们已经数值研究了晶格时代、深度格栅和折射率对晶格效率的影响。一维亚波金属矩形格栅被研究在一个破碎的全内部反射(奥托配置)电路中,用来满足相同步条件。对该传感器系统的参数分析已经完成。
{"title":"Численное моделирование сенсоров на основе линейных металлических решеток","authors":"О. Э. Камешков, Виталий Владимирович Герасимов, Борис Александрович Князев","doi":"10.34077/rcsp2021-85","DOIUrl":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-85","url":null,"abstract":"В данной работе проводилось сравнение методом численного моделирования сенсорных\u0000возможностей одномерных дифракционных и субволновых решеток. Оптимизированная\u0000дифракционная решетка представляет перспективный, недорогой и простой в изготовлении ТГц\u0000датчик показателя преломления. Мы численно исследовали влияние периода решетки, глубины\u0000решетки и показателя преломления на ППР-свойства решетки. Одномерные субволновые\u0000металлические прямоугольные решетки исследовались в схеме нарушенного полного внутреннего\u0000отражения (конфигурация Отто), которая используется для удовлетворения условий фазового\u0000синхронизма. Выполнен параметрический анализ данной сенсорной системы.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"9 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"121249483","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Проявления связанных состояний в континууме в люминесцентном откликенаноостровков Ge(Si) в двумерных фотонных кристаллах 在二维光子晶体中的发光反应Ge(Si)中,连续状态的表现
М. В. Степихова, С. А. Дьяков, А. Н. Яблонский
В работе приводятся результаты экспериментальных исследований двумерных фотонныхкристаллов (ФК), сформированных на кремниевых структурах с самоформирующимисянаноостровками Ge(Si). Интерес к таким структурам вызван, прежде всего, их излучательнойспособностью в диапазоне длин волн 1.2-1.6 мкм и возможностями интегрирования в схемысовременной микроэлектроники. В работе рассмотрены особенности процессов взаимодействияизлучающей среды (наноносостровков Ge(Si)) с модами ФК, в частности, так называемымисвязанными состояниями в континууме (bound states in the continuum - BIC), вносящимипреимущественный вклад в усиление люминесцентного отклика наноостровков.
这项工作带来了二维光子晶体(fk)的实验结果,这些晶体是在硅结构中形成的,其自成形的Ge(Si)。人们对这种结构的兴趣主要是由于它们在1.2-1.6 m波长范围内的辐射能力,以及融入现代微电子电路的能力。工作描述了有效辐射介质(Si)与fk mod的相互作用(Ge)过程的性质,特别是所谓的连续状态(大陆上的波长状态),对纳米岛屿的发光反应作出了重要贡献。
{"title":"Проявления связанных состояний в континууме в люминесцентном отклике\u0000наноостровков Ge(Si) в двумерных фотонных кристаллах","authors":"М. В. Степихова, С. А. Дьяков, А. Н. Яблонский","doi":"10.34077/rcsp2021-81","DOIUrl":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-81","url":null,"abstract":"В работе приводятся результаты экспериментальных исследований двумерных фотонных\u0000кристаллов (ФК), сформированных на кремниевых структурах с самоформирующимися\u0000наноостровками Ge(Si). Интерес к таким структурам вызван, прежде всего, их излучательной\u0000способностью в диапазоне длин волн 1.2-1.6 мкм и возможностями интегрирования в схемы\u0000современной микроэлектроники. В работе рассмотрены особенности процессов взаимодействия\u0000излучающей среды (наноносостровков Ge(Si)) с модами ФК, в частности, так называемыми\u0000связанными состояниями в континууме (bound states in the continuum - BIC), вносящими\u0000преимущественный вклад в усиление люминесцентного отклика наноостровков.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"45 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"116459668","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Алгоритм формирования трехмерной сцены инфракрасного диапазона 红外波段三维场景形成算法
А. В. Зверев, Д.Е. Ипатов
На сегодняшний день машинное зрение является одним из наиболее значимых примененийинтеллектуальных систем во множестве областей человеческой деятельности [1]. В таких системаханализ окружения выполняется с применением различных сенсоров, среди которых наиболеераспространенными являются фотоприёмные устройства (ФПУ). Для достижения высочайшейэффективности в решении поставленных задач, машинному зрению требуется улучшение следующихкачественных и количественных характеристик ФПУ: входной динамический диапазон, латентностьпо выводу сигнала и возможность работы в инфракрасном (ИК) спектре длин волн. Последнеетребование особенно важно в сложных и крайне опасных для человека экстремальных условиях.
到目前为止,机器视觉是许多人类活动领域中最重要的智能系统应用之一。在这种系统中,环境是由各种传感器执行的,其中最常见的是光电接收设备。为了实现目标的最高效率,机器需要改进pcu的质量和数量特征:输入动态范围、输出潜能和在红外波长光谱中工作的能力。在极端环境中,最后的要求尤其重要。
{"title":"Алгоритм формирования трехмерной сцены инфракрасного диапазона","authors":"А. В. Зверев, Д.Е. Ипатов","doi":"10.34077/rcsp2021-139","DOIUrl":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-139","url":null,"abstract":"На сегодняшний день машинное зрение является одним из наиболее значимых применений\u0000интеллектуальных систем во множестве областей человеческой деятельности [1]. В таких системах\u0000анализ окружения выполняется с применением различных сенсоров, среди которых наиболее\u0000распространенными являются фотоприёмные устройства (ФПУ). Для достижения высочайшей\u0000эффективности в решении поставленных задач, машинному зрению требуется улучшение следующих\u0000качественных и количественных характеристик ФПУ: входной динамический диапазон, латентность\u0000по выводу сигнала и возможность работы в инфракрасном (ИК) спектре длин волн. Последнее\u0000требование особенно важно в сложных и крайне опасных для человека экстремальных условиях.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"19 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"126829906","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
Эллипсометрическая in situ диагностика температуры в технологии выращиванияслоёв кадмий-ртуть-теллур методом молекулярно-лучевой эпитаксии
В.А. Швец, Д.В. Марин, И. А. Азаров
Температура подложки при выращивании слоёв кадмий-ртуть-теллур (КРТ) в технологиимолекулярно-лучевой эпитаксии является одним из ключевых параметров, который обеспечиваетстабильный рост бездефектных эпитаксиальных плёнок с заданными характеристиками.Используемые в мировой практике методы контроля температуры, такие как пирометрия,спектроскопия края поглощения, термопарный либо малоэффективны, либо требуют дополнительнойтехнической адаптации вакуумного оборудования.
在分子束束辐射中,基质的生长过程中,基质温度是确保无胎面附着特征稳定增长的关键参数之一。全球实践中使用的温度控制方法,如高温测定、光谱学、热成对或需要对真空设备进行额外的技术调整。
{"title":"Эллипсометрическая in situ диагностика температуры в технологии выращивания\u0000слоёв кадмий-ртуть-теллур методом молекулярно-лучевой эпитаксии","authors":"В.А. Швец, Д.В. Марин, И. А. Азаров","doi":"10.34077/rcsp2021-90","DOIUrl":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-90","url":null,"abstract":"Температура подложки при выращивании слоёв кадмий-ртуть-теллур (КРТ) в технологии\u0000молекулярно-лучевой эпитаксии является одним из ключевых параметров, который обеспечивает\u0000стабильный рост бездефектных эпитаксиальных плёнок с заданными характеристиками.\u0000Используемые в мировой практике методы контроля температуры, такие как пирометрия,\u0000спектроскопия края поглощения, термопарный либо малоэффективны, либо требуют дополнительной\u0000технической адаптации вакуумного оборудования.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"75 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"132721612","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}
引用次数: 0
期刊
ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ
全部 Acc. Chem. Res. ACS Applied Bio Materials ACS Appl. Electron. Mater. ACS Appl. Energy Mater. ACS Appl. Mater. Interfaces ACS Appl. Nano Mater. ACS Appl. Polym. Mater. ACS BIOMATER-SCI ENG ACS Catal. ACS Cent. Sci. ACS Chem. Biol. ACS Chemical Health & Safety ACS Chem. Neurosci. ACS Comb. Sci. ACS Earth Space Chem. ACS Energy Lett. ACS Infect. Dis. ACS Macro Lett. ACS Mater. Lett. ACS Med. Chem. Lett. ACS Nano ACS Omega ACS Photonics ACS Sens. ACS Sustainable Chem. Eng. ACS Synth. Biol. Anal. Chem. BIOCHEMISTRY-US Bioconjugate Chem. BIOMACROMOLECULES Chem. Res. Toxicol. Chem. Rev. Chem. Mater. CRYST GROWTH DES ENERG FUEL Environ. Sci. Technol. Environ. Sci. Technol. Lett. Eur. J. Inorg. Chem. IND ENG CHEM RES Inorg. Chem. J. Agric. Food. Chem. J. Chem. Eng. Data J. Chem. Educ. J. Chem. Inf. Model. J. Chem. Theory Comput. J. Med. Chem. J. Nat. Prod. J PROTEOME RES J. Am. Chem. Soc. LANGMUIR MACROMOLECULES Mol. Pharmaceutics Nano Lett. Org. Lett. ORG PROCESS RES DEV ORGANOMETALLICS J. Org. Chem. J. Phys. Chem. J. Phys. Chem. A J. Phys. Chem. B J. Phys. Chem. C J. Phys. Chem. Lett. Analyst Anal. Methods Biomater. Sci. Catal. Sci. Technol. Chem. Commun. Chem. Soc. Rev. CHEM EDUC RES PRACT CRYSTENGCOMM Dalton Trans. Energy Environ. Sci. ENVIRON SCI-NANO ENVIRON SCI-PROC IMP ENVIRON SCI-WAT RES Faraday Discuss. Food Funct. Green Chem. Inorg. Chem. Front. Integr. Biol. J. Anal. At. Spectrom. J. Mater. Chem. A J. Mater. Chem. B J. Mater. Chem. C Lab Chip Mater. Chem. Front. Mater. Horiz. MEDCHEMCOMM Metallomics Mol. Biosyst. Mol. Syst. Des. Eng. Nanoscale Nanoscale Horiz. Nat. Prod. Rep. New J. Chem. Org. Biomol. Chem. Org. Chem. Front. PHOTOCH PHOTOBIO SCI PCCP Polym. Chem.
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
0
微信
客服QQ
Book学术公众号 扫码关注我们
反馈
×
意见反馈
请填写您的意见或建议
请填写您的手机或邮箱
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
现在去查看 取消
×
提示
确定
Book学术官方微信
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:481959085
Book学术
文献互助 智能选刊 最新文献 互助须知 联系我们:info@booksci.cn
Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。
Copyright © 2023 Book学术 All rights reserved.
ghs 京公网安备 11010802042870号 京ICP备2023020795号-1