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Microelectronics International最新文献
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Study of the electronic transport performance of ZnO-SiO2 film: the construction of grain boundary barrier
氧化锌-二氧化硅薄膜的电子传输性能研究:晶界屏障的构建
IF 1.1
4区 工程技术
Q4 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
Microelectronics International
Pub Date : 2024-07-09
DOI: 10.1108/mi-02-2024-0029
Yidong Zhang
Purpose